形成金属互连的方法

发明专利无效专利

申请号：
CN99809922.8
IPC分类号：--
申请日期：
1999-06-23
申请人：
应用材料有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	形成金属互连的方法
申请号	CN99809922.8	申请日期	1999-06-23
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2002-07-17	公开/公告号	CN1359536
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	应用材料有限公司	申请人地址	美国加利福尼亚变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	应用材料有限公司	当前权利人	应用材料有限公司
发明人	丹·美旦;阿首克·K·辛哈;徐政;陈良毓;罗德里克·C·莫瑟里;丹尼尔·卡尔;戴安娜·马晓冰;叶炎;涂文强
代理机构	中国国际贸易促进委员会专利商标事务所	代理人	王以平

摘要

本发明提供形成可靠的互连的方法,其中线在插头或通路上的重叠最小化或被消除。在一方面,在通路上淀积包含诸如钨的导电材料的阻挡层插头,在线蚀刻过程中提供蚀刻停止物,并且如果线在通路上不对齐就可防止诸如铜的金属扩散进周围的电介质材料。另外,阻挡层插头防止互连电阻的整体减小,并能用反应离子蚀刻形成金属线。在另一方面,反应离子蚀刻技术用于有选择性地蚀刻金属线和阻挡层,以提供可控制的蚀刻工艺,该工艺对金属线、以及随后对阻挡层、对通路或插头表现出选择性。

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