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一种铜铟镓硒太阳电池器件及缓冲层的快速制备方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201410532413.4
  • IPC分类号:H01L31/0445;H01L31/18
  • 申请日期:
    2014-09-30
  • 申请人:
    天津理工大学
著录项信息
专利名称一种铜铟镓硒太阳电池器件及缓冲层的快速制备方法
申请号CN201410532413.4申请日期2014-09-30
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2015-06-10公开/公告号CN104701396A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L31/0445
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;3;1;/;0;4;4;5;;;H;0;1;L;3;1;/;1;8查看分类表>
申请人天津理工大学申请人地址
天津市西青区宾水西道391号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人天津理工大学当前权利人天津理工大学
发明人薛玉明;尹富红;潘洪刚;刘君;宋殿友;郭晓倩;朱亚东;李鹏海;冯少君;张嘉伟;刘浩;高林;航伟;乔在祥;曲慧楠;李鹏宇;王玉昆
代理机构暂无代理人暂无
摘要
一种基于铜铟镓硒衬底使用化学水浴法高氨条件下制备大面积硫化镉薄膜制备方法,其特征在于:衬底由玻璃衬底上制备用磁控溅射法制备钼电极并且用共蒸发的方法制备铜铟镓硒薄膜,在该复合衬底表面用化学水浴法在高氨条件下制备CdS薄膜。本发明的优点是:该种基于铜铟镓硒衬底使用化学水浴法高氨条件下制备大面积硫化镉薄膜制备方法结晶质量好,致密无针孔,可重复性好并且具有高效率沉积薄膜,有很好的附着性并且具有高的透过率其制备方法简单、易于实施,有利于大规模的推广应用,在工业生产中具有极其重要的应用前景。

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