一种真空快速多相沉积系统制备YSZ涂层的方法

发明专利无效专利

申请号：
CN201410143990.4
IPC分类号：C23C4/134;C23C4/11;C23C4/073
申请日期：
2014-04-11
申请人：
北京航空航天大学

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专利名称	一种真空快速多相沉积系统制备YSZ涂层的方法
申请号	CN201410143990.4	申请日期	2014-04-11
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2014-08-06	公开/公告号	CN103966540A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C4/134 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C4/00 熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆（堆焊入B23K，例如B23K5/18，B23K9/04〔4，2016.01〕 C23C4/12 以喷镀方法为特征的〔4，2016.01〕 C23C4/134 等离子喷涂〔2016.01〕	IPC分类号	C;2;3;C;4;/;1;3;4;;;C;2;3;C;4;/;1;1;;;C;2;3;C;4;/;0;7;3查看分类表>
申请人	北京航空航天大学	申请人地址	北京市海淀区学院路37号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	北京航空航天大学	当前权利人	北京航空航天大学
发明人	郭洪波;李晨祎;魏亮亮;高丽华;宫声凯;徐惠彬
代理机构	北京永创新实专利事务所	代理人	姜荣丽

摘要

本发明公开了一种真空快速多相沉积系统制备YSZ涂层的方法，涉及一种新型结构热障涂层及其制备技术领域。所述制备方法中真空室压力低于1mbar，选择Ar35splm，He60slpm作为工作气体，通过调整电功率、电流、喷涂距离和送粉率等工艺参数，可以根据需要将YSZ颗粒加热到固液气三相或其任意组合相，即可以沉积出多种形貌的YSZ涂层，如柱状晶结构，纳米多层结构，纳米多层加柱状晶结构，纳米加微米多层结构等等。采用本发明提供制备方法得到的涂层组织致密，无液滴、颗粒以及针孔等缺陷，涂层与粘结层的结合力高；焰流能够在复杂的几何形状表面的流动，因此可以实现几何形状复杂的工件表面均匀涂层的制备。

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