光学膜、其制造方法及使用这种光学膜的图像显示装置

发明专利无效专利

申请号：
CN200480010029.2
IPC分类号：G02B5/30;G02F1/13363;C08J7/04;B29C55/02;B05D7/00
申请日期：
2004-04-28
申请人：
日东电工株式会社

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著录项信息

专利名称	光学膜、其制造方法及使用这种光学膜的图像显示装置
申请号	CN200480010029.2	申请日期	2004-04-28
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2006-05-17	公开/公告号	CN1774654
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02B5/30 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02B 光学元件、系统或仪器（G02F优先；专用于照明装置或系统的光学元件入F21V 1/00至F21V 13/00；测量仪器见G01类的有关小类，例如，光学测距仪入G01C；光学元件、系统或仪器的测试入G01M 11/00；眼镜入G02C；摄影、放映或观看用的装置或设备入G03B；声透镜入G10K 11/30；电子和离子“光学”入H01J；X射线“光学”入H01J，H05G 1/00；结构上与放电管相组合的光学元件入H01J 5/16，H01J 29/89，H01J 37/22；微波“光学”入H01Q；光学元件与电视接收机的组合装置入H04N 5/72；彩色电视系统中的光学系统或装置入H04N 9/00；专门适用于透明或反射区的加热装置入H05B 3/84）〔1，7〕 G02B5/00 除透镜外的光学元件（光波导入G02B 6/00；光学逻辑元件入G02F 3/00）〔4〕 G02B5/30 偏振元件（光调制器件入G02F 1/00）	IPC分类号	G;0;2;B;5;/;3;0;;;G;0;2;F;1;/;1;3;3;6;3;;;C;0;8;J;7;/;0;4;;;B;2;9;C;5;5;/;0;2;;;B;0;5;D;7;/;0;0查看分类表>
申请人	日东电工株式会社	申请人地址	日本大阪府变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	日东电工株式会社	当前权利人	日东电工株式会社
发明人	村上奈穗;西小路祐一;吉见裕之
代理机构	永新专利商标代理有限公司	代理人	过晓东

摘要

本发明提供了一种光学膜，其包括基材和双折射层的层叠，并且在基材和双折射层之间的粘合性方面是优异的。通过如下方法在基材上形成双折射层：在基材上涂覆双折射层的材料，从而形成涂覆膜；拉伸/收缩基材，从而拉伸/收缩涂覆膜；并且固体涂覆膜材料。所述材料事先分散或溶解在溶剂中，并且以溶液形式涂覆，其中溶剂对基材表现出溶解性，并且在涂覆步骤中，溶剂渗入基材内部分中，从而获得基材和双折射层之间粘合性优异的光学膜。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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