图案形成方法、以及使用其的电子元件的制造方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201480019503.1
IPC分类号：G03F7/038;G03F7/004;G03F7/039;G03F7/32;H01L21/027
申请日期：
2014-03-27
申请人：
富士胶片株式会社

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法律信息

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著录项信息

专利名称	图案形成方法、以及使用其的电子元件的制造方法
申请号	CN201480019503.1	申请日期	2014-03-27
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2015-11-25	公开/公告号	CN105103051A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/038 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/004 感光材料（G03F 7/12，G03F 7/14优先）〔5〕 G03F7/038 高分子化合物被制备成不溶解的或非均匀可湿的（G03F 7/075优先；高分子叠氮化合物入G03F 7/012；高分子重氮化合物入G03F 7/021）〔5〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;0;3;8;;;G;0;3;F;7;/;0;0;4;;;G;0;3;F;7;/;0;3;9;;;G;0;3;F;7;/;3;2;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;7查看分类表>
申请人	富士胶片株式会社	申请人地址	日本东京港区西麻布2丁目26番30号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	富士胶片株式会社	当前权利人	富士胶片株式会社
发明人	滝沢裕雄;平野修史;横川夏海
代理机构	北京同立钧成知识产权代理有限公司	代理人	杨文娟;臧建明

摘要

本发明提供一种图案形成方法、树脂组合物及抗蚀剂膜、以及电子元件的制造方法，通过所述图案形成方法而极其高水平地同时满足高灵敏度、高分辨率、膜薄化减少性能、EL、及局部的图案尺寸的均一性，所述图案形成方法包括：(1)使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物来形成膜、(2)利用光化射线或放射线对膜进行曝光、以及(3)使用包含有机溶剂的显影液对经曝光的膜进行显影，且该树脂组合物含有(A)具有具备通过光化射线或放射线的照射而分解并产生酸的结构部位的重复单元(R)的树脂与(B)溶剂，显影液含有与曝光后的树脂(A)中所含有的极性基形成选自离子键结、氢键结、化学键结及偶极相互作用中的至少一种相互作用的添加剂。

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