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避免尖峰现象的方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN02155241.X
  • IPC分类号:--
  • 申请日期:
    2002-12-10
  • 申请人:
    联华电子股份有限公司
著录项信息
专利名称避免尖峰现象的方法
申请号CN02155241.X申请日期2002-12-10
法律状态撤回申报国家暂无
公开/公告日2003-07-16公开/公告号CN1430249
优先权暂无优先权号暂无
主分类号暂无IPC分类号暂无查看分类表>
申请人联华电子股份有限公司申请人地址
台湾省新竹市 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人联华电子股份有限公司当前权利人联华电子股份有限公司
发明人林文正;蓝仁宏;林永昌;李宗翰
代理机构北京三友知识产权代理有限公司代理人陈红
摘要
一种避免尖峰现象的方法,先于一半导体基底表面形成一多晶硅层,接着进行一准直管物理气相沉积制程,以于该多晶硅层表面形成一氮化钛层,随后再进行一快速高温氮化制程,以致密化该氮化钛层;最后于该氮化钛层表面形成一金属硅化物层;其中,该氮化钛层可有效抑制该金属硅化物层与该多晶硅层发生尖峰现象;相较于习知制作导线结构中阻障层的方法,本发明于阻障层的溅镀制程中使用准直管作为辅助,而且在溅镀制程之后更进行一快速高温氮化制程,因此可以有效改善阻障层的均匀性以及致密性,进而避免金属硅化物层发生尖峰现象,降低导线的接触电阻,并且提升产品的可靠度。

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