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一种用于工业硅生产的还原剂及其制备方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN202110906920.X
  • IPC分类号:C01B33/025
  • 申请日期:
    2021-08-09
  • 申请人:
    陇川县晶准硅业有限责任公司
著录项信息
专利名称一种用于工业硅生产的还原剂及其制备方法
申请号CN202110906920.X申请日期2021-08-09
法律状态撤回申报国家暂无
公开/公告日2021-11-12公开/公告号CN113636560A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C01B33/025IPC分类号C;0;1;B;3;3;/;0;2;5查看分类表>
申请人陇川县晶准硅业有限责任公司申请人地址
云南省德宏傣族景颇族自治州陇川县户撒乡腊撒村委会大海岛村 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人陇川县晶准硅业有限责任公司当前权利人陇川县晶准硅业有限责任公司
发明人吴桂生;杨崇国;龚平均;尹逵;龚颖;尹青;吴炫霆
代理机构昆明科阳知识产权代理事务所代理人暂无
摘要
本发明涉及工业硅生产技术领域,公开了一种用于工业硅生产的还原剂及其制备方法,包括以下组分木炭粉、洗精煤粉、石油焦粉、微硅粉、预浸胶液、复合粘结剂和NaOH溶液,还公开了一种用于工业硅生产的还原剂制备方法,包括以下步骤S1、将粉料去杂筛分;S2、将粉料进行中混碾搅拌;S3、将混碾搅拌后的粉料进行浸渍;S4、加入复合粘结剂;S5、通过压球机冷压形成球团。本发明利用工业生产中产生的木炭粉、煤粉、石油焦粉和微硅粉等粉料,经过筛分、混碾搅拌、浸渍、压滤脱水和冷压形成球团,具有粒度均匀密实度高,降低孔隙率、强度高、比电阻大的特点,增加工业硅冶炼炉内的透气性,提高还原效率,从而提高工业硅冶炼的效率。

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