一种用于反应烧结碳化硅制品的真空炉

实用新型专利有效专利

申请号：
CN202020117395.4
IPC分类号：F27B5/05;F27B5/06;F27B5/14;F27B5/18
申请日期：
2020-01-19
申请人：
沈阳沈真真空技术有限责任公司

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著录项信息

专利名称	一种用于反应烧结碳化硅制品的真空炉
申请号	CN202020117395.4	申请日期	2020-01-19
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	F27B5/05 ? IPC结构图谱： F 机械工程；照明；加热；武器；爆破 F2 照明；加热 F27 炉；窑；烘烤炉；蒸馏炉〔4〕 F27B 一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉；开式烧结设备或类似设备（燃烧设备入F23；电加热入H05B） F27B5/00 马弗炉；干馏炉；其他炉料完全隔绝的炉（F27B 9/00优先） F27B5/04 适用于在真空中或特殊气氛中处理炉料的 F27B5/05 在真空中〔5〕	IPC分类号	F;2;7;B;5;/;0;5;;;F;2;7;B;5;/;0;6;;;F;2;7;B;5;/;1;4;;;F;2;7;B;5;/;1;8查看分类表>
申请人	沈阳沈真真空技术有限责任公司	申请人地址	辽宁省沈阳市苏家屯区清州街66-1号苏南工业园园区内D区6-1、6-2号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	沈阳沈真真空技术有限责任公司	当前权利人	沈阳沈真真空技术有限责任公司
发明人	程革;吴振磊;孔德惠;吴冰;张天龙;于洪斌;刘鹏程;陶崇浩;李天华;赵嘉明;韩凤;何晓棠
代理机构	沈阳科苑专利商标代理有限公司	代理人	何丽英

摘要

本实用新型属于真空炉设备技术领域，具体地说是一种用于反应烧结碳化硅制品的真空炉。包括电控系统、炉壳、加热室、真空系统及多组发热组件，其中加热室设置于炉壳内，多组发热组件设置于加热室内，并且与电控系统连接，真空系统与炉壳连接，用于对炉壳内进行抽真空，电控系统用于控制真空系统及多组发热组件。本实用新型整个工作过程安全性好，操作简单，产品质量好，成品率高，设备整体寿命长，易维修，生产温度阈值上限高。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

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