一种掩膜版用清洗剂、其应用以及掩膜版的清洗方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201510350704.6
IPC分类号：G03F7/42
申请日期：
2015-06-24
申请人：
苏州晶瑞化学股份有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种掩膜版用清洗剂、其应用以及掩膜版的清洗方法
申请号	CN201510350704.6	申请日期	2015-06-24
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2015-09-30	公开/公告号	CN104950601A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/42 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/26 感光材料的处理及其设备（G03F 7/12至G03F 7/24优先）〔3，5〕 G03F7/42 剥离或剥离剂〔5〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;4;2查看分类表>
申请人	苏州晶瑞化学股份有限公司	申请人地址	江苏省苏州市吴中经济开发区河东工业园善丰路168号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	晶瑞电子材料股份有限公司	当前权利人	晶瑞电子材料股份有限公司
发明人	高小云;刘兵;朱一华
代理机构	苏州创元专利商标事务所有限公司	代理人	孙仿卫;汪青

摘要

本发明涉及一种掩膜版用清洗剂、其应用以及掩膜版的清洗方法，按重量百分比计，清洗剂的原料配方为：无机碱1%~30%；分散剂0.1%~10%；渗透剂0.001%~5%；水55%~98.899%。本发明的清洗剂可在室温下，仅需要3~5分钟将待清洗的掩膜版表面光刻胶及亚克力胶完全去除，除胶效果上远远优于现有技术最好水平；本发明的清洗剂体系为碱性介质，与酸性体系比较，清洗设备的材质的选择范围更宽；本发明的清洗剂没有选用常规的有机极性和非极性溶剂，而是通过选用无机碱、分散剂与渗透剂的巧妙设计搭配，不仅去胶效果极好，而且废液的COD值小于200，清洗剂更加环保。

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