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曝光装置

发明专利无效专利

申请号：
CN200580019656.7
IPC分类号：G03F7/20;H01L21/027;H01L21/68
申请日期：
2005-06-16
申请人：
东北大学;日本陶瓷科技股份有限公司;太平洋水泥株式会社

基础信息

权利要求

说明书

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	曝光装置
申请号	CN200580019656.7	申请日期	2005-06-16
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2007-07-18	公开/公告号	CN101002143
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/20 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/20 曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B 27/00）〔4〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;2;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;7;;;H;0;1;L;2;1;/;6;8查看分类表>
申请人	东北大学;日本陶瓷科技股份有限公司;太平洋水泥株式会社	申请人地址	日本国宫城县;日本国宫城县;日本国宫城县变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	东北大学,日本陶瓷科技股份有限公司,太平洋水泥株式会社	当前权利人	东北大学,日本陶瓷科技股份有限公司,太平洋水泥株式会社
发明人	大见忠弘;武久究;森山司郎;佐佐木俊一;广濑正孝;石井守;菅谷智幸;片冈昌子;梅津基宏
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	李贵亮

摘要

本发明提供一种对扭转振动的阻力及共振频率高的架构件。能够得到架构件及包括该架构件的曝光装置，所述架构件具有蜂窝结构体，所述蜂窝结构体具备方形柱状的空隙部，且配置为构成该空隙部的壁与扭转变形的方向垂直。架构件的蜂窝结构体优选由陶瓷构成。

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