有机金属化合物

发明专利无效专利

申请号：
CN200710181801.2
IPC分类号：C07F15/06;H01L21/70;C23C16/18
申请日期：
2001-06-29
申请人：
伊利诺伊大学评议会

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著录项信息

专利名称	有机金属化合物
申请号	CN200710181801.2	申请日期	2001-06-29
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2008-03-12	公开/公告号	CN101139365
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C07F15/06 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C07 有机化学〔2〕 C07F 含除碳、氢、卤素、氧、氮、硫、硒或碲以外的其他元素的无环，碳环或杂环化合物（含金属的卟啉入C07D 487/22；高分子化合物入C08） C07F15/00 含周期表第8、9、10或18族元素的化合物 C07F15/06 钴化全物C07F 17/00茂金属〔2〕	IPC分类号	C;0;7;F;1;5;/;0;6;;;H;0;1;L;2;1;/;7;0;;;C;2;3;C;1;6;/;1;8查看分类表>
申请人	伊利诺伊大学评议会	申请人地址	美国伊利诺伊州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	伊利诺伊大学评议会	当前权利人	伊利诺伊大学评议会
发明人	H·蔡
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	周慧敏;李炳爱

摘要

公开了用作前体，形成含金属粉末以及在基质上进行金属化学淀积，特别是用于适于生产电子器件的金属膜的化学蒸气沉积法的，源自VIIb，VIII，IX和X族金属的有机金属化合物。也公开它们的使用方法。优选的本发明有机金属化合物为式(R1)mM(PR23)x化合物，其中M是选自锰，锝，铼，铁，钴，镍，钌，铑，钯，锇，铱和铂的金属，其中m是0，1，2，3或4；x是2，3，4或5以及m+x为2，3，4，5，6，7或8；m以及x按照各金属合适的化合价选择；各R1独立地选自氢，氘，N2，H2，D2以及各种取代的烷基；各R2独立地选自低级烷基，芳基，芳烷基，以及烷基－Z，芳基－Z以及芳烷基－Z；其中Z选自氧，甲硅烷基，甲硅烷氧基，氧代甲硅烷基，甲硅烷氧基，氧代甲硅烷氧基，甲硅烷基烷基，氧代甲硅烷基烷基，甲硅烷氧基烷基，氧代甲硅烷氧基烷基，甲硅烷基烷氧基，甲硅烷基烷氧基，甲硅烷氧基烷氧基以及氧代甲硅烷氧基烷氧基；以及其中当M是钴并且一个R1选自N2时，m是2并且第二个R1是氢或氘。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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