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具有中心馈送射频能量的用于物理气相沉积的装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201180020863.X
  • IPC分类号:C23C14/34;C23C14/54
  • 申请日期:
    2011-03-28
  • 申请人:
    应用材料公司
著录项信息
专利名称具有中心馈送射频能量的用于物理气相沉积的装置
申请号CN201180020863.X申请日期2011-03-28
法律状态授权申报国家暂无
公开/公告日2013-01-02公开/公告号CN102859029A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C23C14/34IPC分类号C;2;3;C;1;4;/;3;4;;;C;2;3;C;1;4;/;5;4查看分类表>
申请人应用材料公司申请人地址
美国加利福尼亚州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人应用材料公司当前权利人应用材料公司
发明人穆罕默德·拉希德;拉拉·哈夫雷查克;迈克尔·S·考克斯;唐尼·扬;基兰库马·文德亚;艾伦·里奇
代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司代理人徐金国
摘要
在某些实施例中,一种用来将射频能量耦接至靶材的馈送结构可包括:主体,该主体具有用来接收射频能量的第一末端和与该第一末端相对以将该射频能量耦接至靶材的第二末端,该主体进一步具有被设置为从该第一末端至该第二末端贯穿该主体的中心开口;第一部件,该第一部件在该第一末端处耦接至该主体,其中该第一部件包括外接该主体且从该主体径向向外延伸的第一元件,和设置在该第一部件中以从射频电源接收射频能量的一个或多个端子;和源分布板,该源分布板耦接至该主体的该第二末端以将该射频能量分布至该靶材,其中该源分布板包括被设置为贯穿该板且与该主体的该中心开口对准的孔。

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