放射线敏感性树脂组合物、间隔、及其形成方法以及液晶显示元件

发明专利无效专利

申请号：
CN200510069112.3
IPC分类号：--
申请日期：
2005-05-10
申请人：
JSR株式会社

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法律信息

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著录项信息

专利名称	放射线敏感性树脂组合物、间隔、及其形成方法以及液晶显示元件
申请号	CN200510069112.3	申请日期	2005-05-10
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2005-11-16	公开/公告号	CN1696827
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	JSR株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	JSR株式会社	当前权利人	JSR株式会社
发明人	一户大吾;西尾寿浩;岩渊智子
代理机构	北京三幸商标专利事务所	代理人	刘激扬

摘要

本发明提供可形成在高感光度下可以忠实再现掩膜图案的设计尺寸，且与基片的粘合性优异，在1500J/m2或以下的曝光量下也可以得到足够的间隔和膜厚，解决了在显影液中光聚合引发剂的析出问题，另外强度，耐热性等也优异的液晶显示元件用间隔的放射线敏感性树脂组合物。通过放射线敏感性树脂组合物实现，其特征在于该组合物是含有[A](a1)乙烯性不饱和羧酸和/或乙烯性不饱和羧酸酐和(a2)含有环氧基的乙烯性不饱和化合物和(a3)其它乙烯性不饱和化合物的共聚物，[B]具有乙烯性不饱和键的聚合性化合物，以及[C]光聚合物引发剂的感光性组合物，且[C]光聚合引发剂的含量相对于100重量份[B]为0.1～5重量份。

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