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胶涂覆设备及胶涂覆方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201010154127.0
  • IPC分类号:G03F7/16
  • 申请日期:
    2010-04-19
  • 申请人:
    北京京东方光电科技有限公司
著录项信息
专利名称胶涂覆设备及胶涂覆方法
申请号CN201010154127.0申请日期2010-04-19
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2011-10-19公开/公告号CN102221784A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/16IPC分类号G;0;3;F;7;/;1;6查看分类表>
申请人北京京东方光电科技有限公司申请人地址
北京市朝阳区酒仙桥路10号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人京东方科技集团股份有限公司,北京京东方光电科技有限公司当前权利人京东方科技集团股份有限公司,北京京东方光电科技有限公司
发明人周伟峰;郭建;明星
代理机构北京中博世达专利商标代理有限公司代理人申健
摘要
本发明提供一种胶涂覆设备及胶涂覆方法,涉及薄膜晶体管液晶显示器的制造工艺设备和工艺方法,能够减少或避免层与层之间出现气泡,进而提高TFTLCD的质量和制作效率。胶涂覆设备,包括:喷嘴、与喷嘴连接的胶供给机构和喷嘴移动机构,所述喷嘴中包括至少两排胶喷孔,相邻的两排胶喷孔之间用隔垫物隔开。本发明用于涂覆多层胶。

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