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浸没曝光设备以及浸没曝光方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201010510290.6
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2004-03-17
  • 申请人:
    株式会社尼康
著录项信息
专利名称浸没曝光设备以及浸没曝光方法
申请号CN201010510290.6申请日期2004-03-17
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2011-02-23公开/公告号CN101980086A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人株式会社尼康申请人地址
日本东京 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人株式会社尼康当前权利人株式会社尼康
发明人M·宾纳德
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所代理人李洋
摘要
本发明公开浸没曝光设备和浸没曝光方法,用于在更换平板印刷机(10)中工件(208)期间,将浸没流体(212)保持在邻接投射透镜(16)的间隙。该设备和方法包括光学组件(16)和台组件(202),前者作成为可以将图像投射到工件(208),后者包括工件座(204),该工件座作成为可以支承邻接光学组件(16)的工件(208)。配置外围系统(26),以便向台组件(202)光学组件(16)和工件(208)之间形成的间隙输送浸没流体(212),从该间隙中除去该浸没流体(212)。在完成工件(208)曝光后,更换系统(216)取下工件(208),用第二工件替换该工件。配置浸没流体约束系统(214),在取下第一工件(208),用第二工件代替时,可以将浸没流体(212)保持在该间隙中。

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