一种张网结构、张网方法及张网系统

发明专利有效专利

申请号：
CN201911001286.4
IPC分类号：C23C14/04;C23C14/24;H01L51/00;H01L51/56
申请日期：
2019-10-21
申请人：
上海和辉光电有限公司

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著录项信息

专利名称	一种张网结构、张网方法及张网系统
申请号	CN201911001286.4	申请日期	2019-10-21
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-05-07	公开/公告号	CN112760596A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/04 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/04 局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;0;4;;;C;2;3;C;1;4;/;2;4;;;H;0;1;L;5;1;/;0;0;;;H;0;1;L;5;1;/;5;6查看分类表>
申请人	上海和辉光电有限公司	申请人地址	上海市金山区九工路1568号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	上海和辉光电有限公司	当前权利人	上海和辉光电有限公司
发明人	李晓凯;陈凯凯
代理机构	北京品源专利代理有限公司	代理人	孟金喆

摘要

本发明公开了一种张网结构、张网方法及张网系统，张网结构包括：框架和张网调整结构；框架包括沿第一方向的第一边框和第二边框，以及沿第二方向的第三边框和第四边框；第一边框和第二边框的外侧面设置有沿第一方向贯穿的凹槽；第三边框和第四边框的外侧面设置有沿第二方向贯穿的凹槽；张网调整结构包括设置于凹槽内多个子调整结构；张网调整结构设置有多个螺孔，螺孔贯穿子调整结构的外侧面和内侧面；螺孔内设置有螺钉，螺钉可通过旋转对边框施加由外侧面指向内侧面的作用力。本发明提供了一种张网结构、张网方法及张网系统，以解决条状掩膜版的掩膜开口的位置在张网拉伸过程中产生偏移的问题。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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