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相对于衍射光学部件移动射束以便减少干涉图案

发明专利无效专利

申请号：
CN200710097194.1
IPC分类号：G03F7/20;H01S3/00;H01L21/027
申请日期：
2007-04-12
申请人：
ASML荷兰有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	相对于衍射光学部件移动射束以便减少干涉图案
申请号	CN200710097194.1	申请日期	2007-04-12
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2007-10-17	公开/公告号	CN101055429
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/20 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/20 曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B 27/00）〔4〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;2;0;;;H;0;1;S;3;/;0;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;7查看分类表>
申请人	ASML荷兰有限公司	申请人地址	荷兰费尔德霍芬变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	ASML荷兰有限公司	当前权利人	ASML荷兰有限公司
发明人	H·威瑟;J·J·M·巴塞尔曼斯;P·W·H·德贾格;H·J·P·文克
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	王波波

摘要

一种系统和方法用来由至少部分相干的光束形成非相干光束，以使干涉或散斑图被基本消除。旋转光学元件引导部分相干的光束自角分布改变元件反射以此形成非相干光束。通过旋转光学元件的旋转，部分相干的光束以变动的角度或位置被引导到角分布改变元件上。所述角度作为时间的函数来变化。

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