基于光学干涉的应力检测装置及检测方法

发明专利有效专利

申请号：
CN202110199311.5
IPC分类号：G01L1/24
申请日期：
2021-02-23
申请人：
紫创（南京）科技有限公司

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专利名称	基于光学干涉的应力检测装置及检测方法
申请号	CN202110199311.5	申请日期	2021-02-23
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2021-03-26	公开/公告号	CN112556905A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01L1/24 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01L 测量力、应力、转矩、功、机械功率、机械效率或流体压力（称量入G01G）〔4〕 G01L1/00 力或应力的一般计量（测量由于冲击产生的力入G01L 5/00）〔4〕 G01L1/24 通过测量材料受应力时其光学性质的变化，例如，应用光弹性应力分析	IPC分类号	G;0;1;L;1;/;2;4查看分类表>
申请人	紫创（南京）科技有限公司	申请人地址	江苏省南京市浦口区桥林街道步月路29号12幢_373 变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	紫创（南京）科技有限公司	当前权利人	紫创（南京）科技有限公司
发明人	李海鹏
代理机构	北京集佳知识产权代理有限公司	代理人	徐文欣

摘要

一种基于光学干涉的应力检测装置及检测方法，其中，检测装置包括：晶圆承载装置，用于承载待测晶圆，所述待测晶圆包括若干采样区域；入射光系统，用于发射多个入射光；相移干涉系统，用于使检测光和参考光相互干涉形成检测干涉光；图像采集系统，用于根据多个与同一采样区域对应的检测干涉光获取相应的多个干涉条纹图片，形成所述多个检测干涉光的多个参考光相位不同；应力分析系统，用于根据多个与同一采样区域对应的干涉条纹图片，获取该采样区域的应力数据。从而，提供了一种精度高、灵敏度高、检测效率高、检测深度受限少、且不会在检测过程中对半导体结构产生破坏的应力检测装置及相应的检测方法，以对半导体结构的应力分布情况进行检测。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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