扩径管型等离子体生成装置

发明专利有效专利

申请号：
CN200780035976.0
IPC分类号：H05H1/24;C23C14/24;C23C14/32
申请日期：
2007-09-27
申请人：
日本磁性技术株式会社

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著录项信息

专利名称	扩径管型等离子体生成装置
申请号	CN200780035976.0	申请日期	2007-09-27
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2009-08-26	公开/公告号	CN101518161
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H05H1/24 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H05 其他类目不包含的电技术 H05H 等离子体技术（离子束管入H01J 27/00；磁流体发电机入H02K 44/08；涉及生成等离子体的产生X射线的入H05G 2/00）；加速的带电粒子或中子的产生（从放射源获取中子的入G21，例如：G21B，G21C，G21G）；中性分子或原子射束的产生或加速（原子钟入G04F 5/14；受激发射器件入H01S；通过与由分子、原子或亚原子粒子的能级所确定的基准频率相比较而进行频率调整的入H03L 7/26） H05H1/00 等离子体的产生；等离子体的处理（等离子体技术在热核聚变反应器的应用入G21B 1/00） H05H1/24 等离子体的产生〔2〕	IPC分类号	H;0;5;H;1;/;2;4;;;C;2;3;C;1;4;/;2;4;;;C;2;3;C;1;4;/;3;2查看分类表>
申请人	日本磁性技术株式会社	申请人地址	日本东京变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	日本磁性技术株式会社	当前权利人	日本磁性技术株式会社
发明人	椎名祐一
代理机构	中国国际贸易促进委员会专利商标事务所	代理人	何腾云

摘要

本发明的目的是提供一种有效率地除去混入到等离子体中的微滴，而且能够简单并且廉价地构成微滴除去部，可望由高纯度等离子体提高成膜等的表面处理精度的等离子体生成装置。在等离子体行进路(5)中配置用来除去在产生等离子体时从阴极(4)副生的微滴的微滴除去部。该微滴除去部由形成等离子体行进路(5)的扩径管(3)、与扩径管(3)的等离子体导入侧始端连接的导入侧缩径管(34)、与扩径管(3)的等离子体排出侧终端连接的排出侧缩径管(39)和形成在扩径管(3)的始端及终端的阶梯部(40)构成。

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