一种环抛机抛光盘螺旋型冷却结构

发明专利无效专利

申请号：
CN201410284975.1
IPC分类号：B24B37/34;B24B55/02
申请日期：
2014-06-24
申请人：
北京微纳精密机械有限公司;西安交通大学

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专利名称	一种环抛机抛光盘螺旋型冷却结构
申请号	CN201410284975.1	申请日期	2014-06-24
法律状态	驳回	申报国家	中国
公开/公告日	2014-10-08	公开/公告号	CN104084877A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B24B37/34 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B2 成型 B24 磨削；抛光 B24B 用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F 3/00）；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给 B24B37/00 研磨机床或装置；附件（B24B 3/00优先） B24B37/34 附件〔2012.01〕	IPC分类号	B;2;4;B;3;7;/;3;4;;;B;2;4;B;5;5;/;0;2查看分类表>
申请人	北京微纳精密机械有限公司;西安交通大学	申请人地址	北京市朝阳区望京新兴产业区利泽中园二区208号1号楼1418室变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	北京微纳精密机械有限公司,西安交通大学	当前权利人	北京微纳精密机械有限公司,西安交通大学
发明人	赵惠英;张楚鹏;范智源;杨和清;于贺春;李彬;席建普;任东旭;袁林;周国强
代理机构	北京科亿知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	汤东凤

摘要

本发明公开了一种环抛机抛光盘螺旋型冷却结构。它包括抛光盘，冷却水循环系统，抛光盘、研磨盘和转台连接在一起，抛光盘上端面加工有螺旋形冷却水管槽，安装有冷却水循环系统，研磨盘下端面与抛光盘上端面粘接在一起，冷却水循环系统可通过冷却水实现抛光过程中研磨盘的恒温控制，让研磨盘保持较好的面形，抛光盘与转台之间通过螺纹固定，转台带动抛光盘旋转，螺旋冷却水管路中的冷却水在离心力的作用下能实现快速循环。本发明能够很好地控制研磨盘和抛光盘温度恒定。

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