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正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法

发明专利有效专利

申请号：
CN200410005582.9
IPC分类号：G03F7/023
申请日期：
2004-02-18
申请人：
东京应化工业株式会社

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法
申请号	CN200410005582.9	申请日期	2004-02-18
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2004-09-01	公开/公告号	CN1525250
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/023 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/004 感光材料（G03F 7/12，G03F 7/14优先）〔5〕 G03F7/022 苯醌重氮（G03F 7/075优先）〔5〕 G03F7/023 高分子苯醌重氮；高分子添加剂，例如，黏结剂〔5〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;0;2;3查看分类表>
申请人	东京应化工业株式会社	申请人地址	日本神奈川县变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	东京应化工业株式会社	当前权利人	东京应化工业株式会社
发明人	森尾公隆;青木知三郎;加藤哲也;中岛哲矢
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	朱丹

摘要

一种正型光致抗蚀剂组合物，含有(A)聚苯乙烯换算重均分子量(Mw)在20000以上并且2核体含量在4%以下的碱溶性酚醛清漆树脂、(B)分子量在1000以下的含酚性羟基化合物、(C)含萘醌二叠氮基化合物、以及(D)有机溶剂。根据本发明可以提供能够防止高温后烘干工序中的抗蚀图案的变形的同时能够使高温加热时的脱气量减少的正型光致抗蚀剂组合物。

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