纳米孔和纳米流体器件中尺寸的反馈控制

发明专利有效专利

申请号：
CN201180052447.8
IPC分类号：B81C1/00
申请日期：
2011-08-16
申请人：
国际商业机器公司

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著录项信息

专利名称	纳米孔和纳米流体器件中尺寸的反馈控制
申请号	CN201180052447.8	申请日期	2011-08-16
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2013-07-03	公开/公告号	CN103189305A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B81C1/00 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B8 微观结构技术；纳米技术 B81 微观结构技术〔7〕 B81C 专门适用于制造或处理微观结构装置或系统的方法或设备（制造微胶囊或微球入B01J13/02；专门适用于制造或处理压电器件、电致伸缩器件或磁致伸缩器件的方法或设备本身入H01L41/22）〔7〕 B81C1/00 在基片内或其上制造或处理的装置或系统（B81C 3/00优先）〔7〕	IPC分类号	B;8;1;C;1;/;0;0查看分类表>
申请人	国际商业机器公司	申请人地址	美国纽约变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	国际商业机器公司	当前权利人	国际商业机器公司
发明人	P·S·瓦格纳;S·哈雷尔;S·罗斯纳格尔
代理机构	北京市中咨律师事务所	代理人	于静;张亚非

摘要

通过使用反馈系统，以受控方式闭合或打开诸如纳米沟道和纳米孔的纳米流体通路。在存在电解质的通路内生长或去除氧化物层，直到通路达到选定尺寸或者通路被闭合。在制造期间测量纳米流体通路的尺寸变化。流过通路的离子电流水平可被用来确定通路尺寸。可通过对元件之间的流体通路的选择性氧化而控制流过流体元件的阵列的流体流。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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