800纳米波段背入射式高密度石英反射光栅

发明专利无效专利

申请号：
CN200410052903.0
IPC分类号：--
申请日期：
2004-07-16
申请人：
中国科学院上海光学精密机械研究所

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	800纳米波段背入射式高密度石英反射光栅
申请号	CN200410052903.0	申请日期	2004-07-16
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2005-03-02	公开/公告号	CN1588133
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	中国科学院上海光学精密机械研究所	申请人地址	上海市800－211邮政信箱变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中国科学院上海光学精密机械研究所	当前权利人	中国科学院上海光学精密机械研究所
发明人	周常河;张妍妍
代理机构	上海新天专利代理有限公司	代理人	张泽纯

摘要

一种用于高衍射效率反射800纳米波段半导体激光或以800纳米为中心波长的飞秒脉冲激光的800纳米波段背入射式高密度石英反射光栅，其特点在于当该光栅的周期为346～396纳米，光栅的深度为260～300纳米，光栅的占空比为1/2，本发明可以使在TE偏振光入射下1级反射衍射效率对800纳米波长实现高于90%的结果；当该光栅的周期为331～381纳米，光栅的深度为360～440纳米，光栅的占空比为1/2，本发明可以使在TM偏振光入射下1级反射衍射效率对800纳米波长实现高于90%的结果。本发明800纳米波段背入射式高密度石英反射光栅由光学全息记录技术或电子束直写装置结合微电子光刻工艺加工而成，可以低成本、大批量生产。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供