干燥检测装置

1.一种干燥检测装置，其特征在于，包括：
腔室；
光学检测装置，布置在所述腔室的外部，并且测量布置于所述腔室的内部的被检测体上的处理液的干燥状态；
压力测量部，测量所述腔室的内部的压力；以及
控制部，根据由所述压力测量部测量的所述腔室的内部的压力来控制所述光学检测装置的驱动。
2.根据权利要求1所述的干燥检测装置，其特征在于，
所述控制部包括与所述腔室的内部的压力对应的包括所述光学检测装置与所述被检测体之间的间隔距离信息的距离数据，并且计算与所述测量的所述腔室的内部的压力对应的距离数据值，并且将计算的所述距离数据值与所述光学检测装置的焦距进行比较以控制所述光学检测装置。
3.根据权利要求2所述的干燥检测装置，其特征在于，
在计算的所述距离数据值与所述光学检测装置的焦距不同的情况下，所述控制部控制所述光学检测装置，使得所述光学检测装置与所述被检测体之间的间隔距离与所述光学检测装置的焦距相同。
4.根据权利要求1所述的干燥检测装置，其特征在于，
所述光学检测装置拍摄所述被检测体的一个表面以生成检测图像，并且基于所述检测图像来测量所述被检测体的一个表面上的所述处理液的所述干燥状态。
5.根据权利要求1所述的干燥检测装置，其特征在于，还包括：
驱动部，驱动所述光学检测装置，
其中，所述控制部根据所述测量的所述腔室的内部的压力来控制所述驱动部，使得所述光学检测装置与所述被检测体之间的间隔距离与所述光学检测装置的焦距相同。
6.根据权利要求5所述的干燥检测装置，其特征在于，
所述控制部计算与测量的所述腔室的内部的压力对应的距离数据，并且将计算的所述距离数据与所述光学检测装置的焦距进行比较，
其中，所述距离数据包括所述光学检测装置与所述被检测体之间的间隔距离信息。
7.根据权利要求6所述的干燥检测装置，其特征在于，
所述驱动部根据测量的所述腔室的内部的压力使所述光学检测装置上升或下降，以调整所述光学检测装置的位置。
8.根据权利要求6所述的干燥检测装置，其特征在于，
所述驱动部根据测量的所述腔室的内部的压力来调整所述光学检测装置的焦距。

干燥检测装置
技术领域
[0001] 本实用新型涉及干燥检测装置。
背景技术
[0002] 随着多媒体的发展，显示装置的重要性正在增加。响应于此，正在使用诸如有机发光显示装置(Organic Light Emitting Display)、液晶显示装置(Liquid Crystal Display，LCD)等的各种各样的显示装置。
[0003] 显示装置的显示图像的装置包括诸如有机发光显示面板或液晶显示面板的显示面板。其中，发光显示面板可以包括发光元件，例如，在发光二极管(Light Emitting Diode，LED)的情况下，包括利用有机物作为发光物质的有机发光二极管(OLED)、利用无机物作为发光物质的无机发光二极管等。
实用新型内容
[0004] 解决的技术问题
[0005] 本实用新型要解决的技术问题是提供根据腔室内的压力变化来控制光学检测装置，使得干燥检测的可靠性提高的干燥检测装置。
[0006] 本实用新型要解决的另一技术问题是提供根据腔室内的压力变化来控制光学检测装置并执行干燥检测，使得干燥检测的可靠性提高的干燥检测方法。
[0007] 本实用新型的技术问题不限于以上所提及的技术问题，并且本领域技术人员可将从下面的记载清楚地理解未提及的其它技术问题。
[0008] 解决方法
[0009] 根据用于解决上述技术问题的一个实施例的干燥检测装置包括腔室；光学检测装置，布置在所述腔室的外部，并且测量布置于所述腔室内的被检测体上的处理液的干燥状态；压力测量部，测量所述腔室的内部的压力；以及控制部，根据由所述压力测量部测量的腔室的内部的压力来控制所述光学检测装置的驱动。
[0010] 所述控制部可以包括与所述腔室的内部的压力对应的包括所述光学检测装置与所述被检测体之间的间隔距离信息的距离数据，并且可以计算与测量的所述腔室的内部的压力对应的距离数据值，并且可以将计算的所述距离数据值与所述光学检测装置的焦距进行比较以控制所述光学检测装置。
[0011] 在计算的所述距离数据值与所述光学检测装置的焦距不同的情况下，所述控制部可以控制所述光学检测装置，使得所述光学检测装置与所述被检测体之间的间隔距离与所述光学检测装置的焦距相同。
[0012] 所述光学检测装置可以拍摄所述被检测体的一个表面以生成检测图像，并且可以基于所述检测图像来测量所述被检测体的一个表面上的处理液的干燥状态。
[0013] 干燥检测装置还可以包括：驱动部，驱动所述光学检测装置，其中，所述控制部可以根据测量的所述腔室的内部的压力来控制所述驱动部，使得所述光学检测装置与所述被检测体之间的间隔距离与所述光学检测装置的焦距相同。
[0014] 所述控制部可以计算与测量的所述腔室的内部的压力对应的距离数据，并且可以将计算的所述距离数据与所述光学检测装置的焦距进行比较，其中，所述距离数据包括所述光学检测装置与所述被检测体之间的间隔距离信息。
[0015] 所述驱动部可以根据所述测量的腔室的内部压力使所述光学检测装置上升或下降，以调整所述光学检测装置的位置。
[0016] 所述驱动部可以根据测量的所述腔室的内部的压力来调整所述光学检测装置的焦距。
[0017] 其它实施例的具体事项包括在详细的描述和附图中。
[0018] 有益效果
[0019] 根据本实施例的干燥检测装置可以对应于内部的压力随着干燥工艺的执行而变化的腔室来控制光学检测装置，从而进行可靠性提高的干燥状态检测。
[0020] 根据实施例的效果不限于以上所例示的内容，并且更多种效果包括在本说明书中。
附图说明
[0021] 图1是根据一个实施例的干燥检测装置的示意性侧视图。
[0022] 图2是示出根据一个实施例的根据干燥检测装置的腔室的内部的压力的被检测体的干燥状态和密封部件的变形的示意图。
[0023] 图3是示出根据一个实施例的根据干燥检测装置的腔室的内部的压力的腔室的变形和光学检测装置与被检测体之间的间隔距离的示意图。
[0024] 图4是示出利用根据一个实施例的干燥检测装置来执行干燥检测工艺的一个示例的示意图。
[0025] 图5和图6是用于说明利用图4的干燥检测装置的、对光学检测装置的根据腔室的真空度的校正操作的示意图。
[0026] 图7是示出利用根据另一实施例的干燥检测装置来执行干燥检测工艺的一个示例的示意图。
[0027] 图8和图9是用于说明利用图7的干燥检测装置的、对光学检测装置的根据腔室的真空度的校正操作的示意图。
[0028] 图10是示出根据一个实施例的干燥检测方法的流程图。
[0029] 图11是示出图10的步骤S100的一个示例的流程图。
[0030] 图12是示出用于获取图11的真空度(腔室内的压力)—间隔距离校正曲线的工艺的示意图。
[0031] 图13和图14是用于说明获得真空度(腔室内的压力)—间隔距离校正曲线的工艺的曲线图。
[0032] 图15是示出图10的步骤S300的一个示例的流程图。
[0033] 图16是利用根据一个实施例的干燥检测装置的、作为检测对象的显示装置的平面图。
[0034] 图17至图19是示出第一真空度下的干燥检测方法的示意图。
[0035] 图20是利用根据一个实施例的光学检测装置输出的第一真空度下的第一检测图像。
[0036] 图21至图23是示出第二真空度下的干燥检测方法的示意图。
[0037] 图24是利用根据一个实施例的光学检测装置输出的第二真空度下的第二检测图像。
[0038] 图25至图27是示出第三真空度下的干燥检测方法的示意图。
[0039] 图28是利用根据一个实施例的光学检测装置输出的第三真空度下的第三检测图像。
[0040] 图29是利用根据一个实施例的光学检测装置输出的第三真空度下的发光元件的对准出现不良的第三检测图像。
[0041] 附图标记的说明
[0042] 1：干燥检测装置
[0043] CH：腔室
[0044] CH1：第一腔室罩
[0045] CH2：第二腔室罩
[0046] 100：光学检测装置
[0047] 200：压力测量部
[0048] 400：驱动部
[0049] 500：控制部
[0050] 600：密封部件
[0051] lr：真空度—间隔距离校正曲线
具体实施例
[0052] 本实用新型的优点和特征以及实现这些优点和特征的方法将通过参照下面与附图一起详细描述的实施例而变得清楚。然而，本实用新型并不限于以下所公开的实施例，而是能够以彼此不同的多种形态实现，本实施例只是为了使本实用新型的公开完整，并向本实用新型所属技术领域的普通技术人员完整地告知实用新型的范围而提供的，本实用新型仅由权利要求书的范围限定。
[0053] 元件(Elements)或层被称为在另一元件或层“上(On)”包括直接在另一元件上或中间插置有其它层或其它元件的两种情况。与此相同，被称为“下(Below)”、“左(Left)”和“右(Right)”包括直接与另一元件相邻地设置或中间插置有其它层或其它元件的两种情况。在整个说明书中，相同的参照符号指代相同的构成要素。
[0054] 虽然术语“第一”、“第二”等用于描述各种构成要素，但是这些构成要素显然不被这些术语所限制。这些术语仅用于区分一个构成要素与另一个构成要素。因此，以下提及的第一构成要素在本实用新型的技术思想之内显然也可以是第二构成要素。
[0055] 以下，参照附图对实施例进行说明。
[0056] 图1是根据一个实施例的干燥检测装置的示意性侧视图。
[0057] 参照图1，根据一个实施例的干燥检测装置1包括腔室CH、台STA、压力测量部200、光学检测装置100和控制部500。干燥检测装置1还可以包括支架300、驱动部400和腔室窗CW。
[0058] 作为用于制造显示装置的装置，干燥检测装置1可以是使包括基板及基板上所涂布的处理液的被检测体SUB的处理液干燥并且检测上述处理液的干燥状态的装置。即，干燥检测装置1可以是使被检测体SUB的处理液干燥并且实时监控上述干燥状态的装置。作为一个示例，干燥检测装置1可以包括通过减小腔室CH的内部的压力使腔室CH的内部形成真空状态以使基板上的处理液汽化、从而使基板上的处理液干燥的干燥装置。另外，干燥检测装置1也可以包括使腔室CH的内部形成真空状态并且使腔室CH的内部的温度上升以在高温真空状态下使基板上的处理液汽化、从而使基板上的处理液干燥的干燥装置。
[0059] 例如，如下所述，被检测体SUB可以包括基板、间隔布置在基板上的第一电极和第二电极、以及布置在上述第一电极与第二电极之间的多个发光元件。多个发光元件可以通过喷墨印刷工艺喷射到基板上，并通过后续的对准工艺在第一电极与第二电极之间对准。
显示装置可以通过将多个发光元件以分散于墨水(处理液)中的状态喷射到基板上并使多个发光元件在基板上对准、并且在后续工艺中使上述墨水干燥而制造。
[0060] 此外，在上述墨水残留在基板上的情况下，在进行后续工艺时，可能会降低腔室CH内的真空度并产生污染。因此，本实用新型的干燥检测装置1可以通过在上述墨水的干燥工艺中或干燥工艺后检测上述墨水是否已完全干燥的干燥状态来改善显示装置的制造工艺的效率。此外，在上述墨水的干燥过程中，由于咖啡环(Coffee ring)效应，在第一电极与第二电极之间对准的多个发光元件的对准可能会出现不良。因此，本实用新型的干燥检测装置1也可以通过在上述墨水的干燥工艺中或干燥工艺后检测多个发光元件的对准是否不良来改善显示装置的制造工艺的效率。上述被检测体SUB的干燥检测工艺可以在图1的干燥检测装置1的腔室CH的内部进行。
[0061] 在说明干燥检测装置1的附图中，定义了第一方向DR1和第二方向DR2。第一方向DR1与第二方向DR2可以是彼此垂直的方向。例如，第一方向DR1可以是水平方向，且第二方向DR2可以是垂直方向。在说明干燥检测装置1的实施例中，第二方向DR2是指以下述的台STA为基准布置光学检测装置100的方向。
[0062] 腔室CH可以提供执行干燥检测工艺或干燥工艺的空间。在执行干燥工艺期间，腔室CH的内部可以保持为真空，但上述腔室CH的内部的真空度可以根据执行干燥工艺(或干燥检测工艺)的时间而变化。同时，腔室CH的内部保持为真空可以表示腔室CH的内部的压力保持为比大气压低的低压状态。
[0063] 在本说明书中，“腔室CH的内部的真空度变化”可以表示“腔室CH的内部的压力在比大气压小的范围内变化”，并且“腔室CH的内部的真空度升高”可以表示“腔室CH的内部的压力减小(减压)”。另外，“腔室CH的内部的真空度升高”可以表示“腔室CH的内部变成高真空”。
[0064] 腔室CH可以包括第一腔室罩CH1和第二腔室罩CH2，其中，第一腔室罩CH1布置在下部，第二腔室罩CH2布置在上部。
[0065] 第一腔室罩CH1和第二腔室罩CH2可以定位成彼此间隔开，或者可以相互结合。在第一腔室罩CH1和第二腔室罩CH2利用密封部件600相互结合的情况下，腔室CH的内部空间可以从外部密闭。
[0066] 第一腔室罩CH1可以提供布置台STA的空间。第一腔室罩CH1可以包括底部CH11和侧壁CH12。侧壁CH12可以从底部CH11向垂直方向(例如，第二方向DR2)折曲形成。即，侧壁CH12可以从底部CH11延伸形成。
[0067] 第二腔室罩CH2可以根据利用干燥检测装置1的干燥工艺或干燥检测工艺来移动，从而与第一腔室罩CH1间隔开或者相互结合。
[0068] 第二腔室罩CH2与第一腔室罩CH1的底部CH11可以在第二方向DR2上彼此间隔开。
第二腔室罩CH2与第一腔室罩CH1的底部CH11之间的间隔距离可以根据上述腔室CH的内部的压力(或者根据腔室CH的内部的真空度)而不同。例如，腔室CH的内部的压力越减小，第二腔室罩CH2与第一腔室罩CH1的底部CH11越可以靠近，并且第二腔室罩CH2与第一腔室罩CH1的底部CH11之间的间隔距离越可以减小。
[0069] 干燥检测装置1还可以包括密封部件600。密封部件600可以布置在第一腔室罩CH1与第二腔室罩CH2之间。例如，密封部件600可以包括具有弹性材质的O型环(O‑ring)。上述密封部件600可以布置在上述第一腔室罩CH1与上述第二腔室罩CH2之间，从而提高上述腔室CH的内部的真空的可靠性。随着腔室CH的内部的压力改变，上述密封部件600的形状可由于压缩力而变形。随着密封部件600的形状变形，上述腔室CH的第一腔室罩CH1与第二腔室罩CH2之间的间隔距离也可以变化。
[0070] 台STA可以布置在腔室CH的内部。台STA可以布置在第一腔室罩CH1上。台STA可以固定在第一腔室罩CH1的底部CH11上。台STA可以提供布置被检测体SUB的空间，并且可以起到支承上述被检测体SUB的作用。
[0071] 光学检测装置100可以布置在腔室CH的外部。光学检测装置100可以布置在第二腔室罩CH2上。光学检测装置100可以通过支架300固定在第二腔室罩CH2上，但不限于此。光学检测装置100可以与台STA间隔开。即，光学检测装置100可以与被检测体SUB间隔开。
[0072] 光学检测装置100可以拍摄被检测体SUB的一个表面，以检测(或测量)被检测体SUB的一个表面上的处理液的干燥状态。例如，光学检测装置100可以拍摄被检测体SUB的一个表面以生成检测图像，并且可以将上述检测图像传输给下述的控制部500。通过由光学检测装置100生成的检测图像，可以检测被检测体SUB的干燥状态。
[0073] 腔室窗CW可以布置在光学检测装置100与台STA之间。腔室窗CW可以布置在腔室CH的上表面上。具体地，腔室窗CW可以布置在第二腔室罩CH2上。腔室窗CW可以由透明的材质形成，使得布置在腔室CH的外部的光学检测装置100可以拍摄布置在腔室CH的内部的被检测体SUB。
[0074] 驱动部400可以根据腔室CH的内部的压力(或腔室CH的真空度)来驱动光学检测装置100。例如，驱动部400可以根据从控制部500接收的信号来调整光学检测装置100的位置或焦距。
[0075] 在一个实施例中，驱动部400可以根据从控制部500传输的信号来调整光学检测装置100的位置，以调整光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离。具体地，驱动部400可以调整光学检测装置100所处的高度。即，驱动部400可以通过使光学检测装置100沿着第二方向DR2移动来调整光学检测装置100所处的高度。
[0076] 在另一实施例中，驱动部400可以根据从控制部500传输的信号来调整光学检测装置100的焦距。在这种情况下，光学检测装置100可以固定到支架300并与第二腔室罩CH2保持一定的距离。虽然光学检测装置100由支架300固定并与第二腔室罩CH2保持一定的距离，但是因为通过驱动部400调整焦距并拍摄被检测体SUB，所以可以生成准确的检测图像。
[0077] 压力测量部200可以测量腔室CH的内部的压力。压力测量部200可以测量腔室CH的内部的压力，并传输到控制部500。此外，在执行干燥工艺或干燥检测工艺期间，腔室CH的内部的压力可以变化。因此，压力测量部200可以测量腔室CH的内部的压力，使得可以反映变化的腔室CH的内部的压力从而执行干燥检测工艺。
[0078] 控制部500可以根据由压力测量部200测量的腔室CH的内部的压力来控制光学检测装置100的驱动。控制部500可以根据腔室CH的内部的压力来控制驱动部400，从而控制光学检测装置100的焦距或位置。具体地，控制部500可以根据腔室CH的内部的压力来控制驱动部400，使得光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离与光学检测装置100的焦距一致(相同)。由于控制部500根据腔室CH的内部的压力控制光学检测装置100的位置或焦距，从而对应于随着干燥工艺或干燥检测工艺的执行而变化的腔室CH的内部的压力而生成检测图像，因此检测图像的准确性可以提高。
[0079] 控制部500可以包括与腔室CH的内部的压力对应的包括光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离信息的距离数据。具体地，控制部500可以包括“腔室的内部的压力(真空度)—间隔距离校正曲线”。控制部500可以利用上述“真空度—间隔距离校正曲线”来计算与腔室CH的真空度对应的距离数据，并且将上述计算的距离数据值与光学检测装置
100的焦距进行比较来控制光学检测装置100的驱动。以下，在本说明书中，“腔室的内部的压力”与“腔室的真空度”可以具有相同的含义，并且可以彼此混用指代。
[0080] 图2是示出根据一个实施例的根据干燥检测装置的腔室的内部的压力的被检测体的干燥状态和密封部件的变形的示意图。图3是示出根据一个实施例的根据干燥检测装置的腔室的内部的压力的腔室的变形和光学检测装置与被检测体之间的间隔距离的示意图。
[0081] 参照图2，被检测体SUB可以包括基板BS和基板BS上的处理液SV。此外，可以在使腔室CH的内部的压力减压的同时执行被检测体SUB的干燥工艺或干燥检测工艺。例如，随着干燥或干燥检测工艺的执行(即，随着干燥工艺时间的流逝)，腔室CH的内部的压力可以减压(或减小)。由于随着上述腔室CH的内部的压力减压(即，随着变成高真空)处理液SV的汽化点降低，因此处理液SV可以在基板BS上汽化而干燥。
[0082] 压力测量部200可以测量变化的腔室CH的内部的压力P，并且将测量的腔室CH的内部的压力P传输到控制部500。根据由压力测量部200测量的腔室CH的内部的压力P，腔室CH的形状或密封部件600(600A、600B、600C)的形状可以变化。例如，图2的(a)示出了测量的腔室CH的内部的压力P为第一压力P1的情况，图2的(b)示出了测量的腔室CH的内部的压力P为第二压力P2的情况，且图2的(c)示出了测量的腔室CH的内部的压力P为第三压力P3的情况。
例如，第一压力P1可以是与大气压相同的第一气压(1atm)，第二压力P2可以小于第一压力P1，且第三压力P3可以小于第一压力P1和第二压力P2。
[0083] 参照图2的(a)，在腔室CH的内部的压力P为第一压力P1的情况下，压力测量部200可以将上述第一压力P1传输到控制部500。如上所述，第一压力P1可以与大气压相同。在这种情况下，由于腔室CH的内部与腔室CH的外部压力相同，因此上述密封部件600A可以不被压缩。在腔室CH的内部的压力P为第一压力P1的情况下，被检测体SUB的处理液SV可以不在基板BS上干燥。
[0084] 随着干燥工艺的执行，腔室CH的内部的压力P可以减压。即，腔室CH的内部的真空度可以升高。参照图2的(b)，在腔室CH的内部的压力P为第二压力P2的情况下，压力测量部
200可以将上述第二压力P2传输到控制部500。如上所述，上述第二压力P2可以小于第一压力P1。在这种情况下，由于腔室CH的内部的压力P比腔室CH的外部的压力小，因此密封部件
600B可以由于腔室CH的内部的压力P与腔室CH的外部的压力之差而被压缩。在腔室CH的内部的压力P为第二压力P2的情况下，被检测体SUB的处理液SV'可以在基板BS上干燥一部分，并且另外一部分可以残留。
[0085] 随着干燥工艺的执行，腔室CH的内部的真空度可以升高。参照图2的(c)，在腔室CH的内部的压力P为第三压力P3的情况下，压力测量部200可以将上述第三压力P3传输到控制部500。如上所述，第三压力P3可以小于第一压力P1和第二压力P2。在这种情况下，由于腔室CH的内部的压力P小于图2的(b)中所示的第二压力P2，因此密封部件600C的压缩量可以更大。在腔室CH的内部的压力P为第三压力P3的情况下，被检测体SUB的处理液SV、SV'可以在基板BS上全部干燥。
[0086] 即，腔室CH的内部的压力P越减小，密封部件600(600A、600B、600C)的压缩量越可以增加，并且被检测体SUB的处理液SV越可以干燥。此外，根据腔室CH的内部的压力P的变化，腔室CH的形状或密封部件600的形状可以变化，并且光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离可以变得不同。
[0087] 参照图3，在腔室CH的内部的压力P变化的情况下，第二腔室罩CH2与台STA之间的间隔距离也可以变化。具体地，随着腔室CH的内部的压力P减小到第一压力P1、第二压力P2和第三压力P3，第二腔室罩CH2与台STA之间的间隔距离也可以减小。图3的(a)的腔室CH的内部的压力P为第一压力P1的情况下的第二腔室罩CH2与台STA之间的间隔距离Dc1、图3的(b)的腔室CH的内部的压力P为第二压力P2的情况下的第二腔室罩CH2与台STA之间的间隔距离Dc2、以及图3的(c)的腔室CH的内部的压力P为第三压力P3的情况下的第二腔室罩CH2与台STA之间的间隔距离Dc3可以随着腔室CH的内部的压力P减小到第一压力P1、第二压力P2和第三压力P3而减小。
[0088] 随着腔室CH的内部的压力P变化，光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离Da(参见图4)可以由于腔室CH的形状或密封部件600的压缩量的变化而变化。具体地，如图3的(a)所示的、腔室CH的内部的压力P为第一压力P1的情况下的光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离Da1可以大于如图3的(b)所示的、腔室CH的内部的压力P为比第一压力P1小的第二压力P2的情况下的光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离Da2。
此外，如图3的(c)所示的、腔室CH的内部的压力P为比第一压力P1和第二压力P2小的第三压力P3的情况下的光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离Da3可以小于如图3的(a)和图3的(b)所示的光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离Da1、Da2。
[0089] 即，光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离可以根据腔室CH的内部的真空度(腔室CH的内部的压力P)的变化而变化。在不对应于腔室CH的内部的真空度的变化来校正光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离的情况下，光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离与光学检测装置100的焦距可不同。在这种情况下，利用光学检测装置100拍摄被检测体SUB的一个表面而生成的检测图像可能由于光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离与光学检测装置100的焦距不同而不清晰。因此，由于检测图像的准确度降低而导致干燥检测的可靠性可能降低，所以可以对应于腔室CH的内部的真空度的变化来控制光学检测装置100的驱动，使得光学检测装置100的焦点形成在被检测体SUB的一个表面上，从而提高上述生成的检测图像的准确度。
[0090] 以下，将说明利用根据一个实施例的干燥检测装置1通过与腔室CH的真空度变化对应地控制光学检测装置100来执行的干燥检测工艺。
[0091] 图4是示出利用根据一个实施例的干燥检测装置来执行干燥检测工艺的一个示例的示意图。
[0092] 参照图4，压力测量部200可以测量腔室CH的内部的压力(P＝Pn)。压力测量部200可以将测量的腔室CH的内部的压力(P＝Pn)传输到控制部500。
[0093] 如上所述，控制部500中可以预先存储有包括与腔室CH的内部的压力(P＝Pn)对应的光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离信息的距离数据(Da＝Dan)。上述与腔室CH的内部的压力(P＝Pn)对应的距离数据(Da＝Dan)可以存储为“真空度—间隔距离校正曲线”。如下所述，可以在干燥检测工艺执行之前、在对干燥检测装置进行设置的步骤中测量并存储上述根据腔室CH的内部的压力(P＝Pn)的距离数据(Da＝Dan)。
[0094] 控制部500计算与测量的腔室CH的内部的压力(P＝Pn)对应的距离数据(Da＝Dan)值，并且上述计算的距离数据值Dan可以被认为是光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离Da。控制部500可以将上述计算的距离数据值Da与光学检测装置100的焦距Db进行比较，以控制驱动光学检测装置100的驱动部400。
[0095] 在一个实施例中，驱动部400可以调整光学检测装置100的位置。具体地，驱动部
400可以起到使上述光学检测装置100沿着第二方向DR2移动以调整被检测体SUB与光学检测装置100之间的间隔距离的作用。在这种情况下，光学检测装置100的焦距Db可以是固定的。
[0096] 在本实施例中，在上述计算的距离数据值Da与光学检测装置100的焦距Db不同的情况下，控制部500可以控制上述驱动部400，使得光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离与光学检测装置100的焦距Db变得相同。具体地，在由上述驱动部400校正光学检测装置100的位置之后，在判断出光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离与光学检测装置100的焦距Db相同的情况下，光学检测装置100可以拍摄被检测体SUB的一个表面以生成检测图像。
[0097] 另外，当上述计算的距离数据值Da与光学检测装置100的焦距Db相同时，在控制部
500不另外进行光学检测装置100的位置校正的情况下，光学检测装置100可以拍摄被检测体SUB的一个表面以生成检测图像。
[0098] 图5和图6是用于说明利用图4的干燥检测装置的、对光学检测装置的根据腔室的真空度的校正操作的示意图。
[0099] 参照图5，压力测量部200测量的腔室CH的内部的压力P可以是第一压力P1。上述压力测量部200可以将测量的腔室CH的内部的第一压力P1传输到控制部500。
[0100] 控制部500可以利用“真空度—间隔距离校正曲线”来计算与上述测量的压力测量部200的第一压力P1对应的第一距离数据Da1。上述第一距离数据Da1可以包括光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离信息，并且可以被认为是光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离Da。在比较了上述第一距离数据Da1与光学检测装置100的焦距Db并判断出第一距离数据Da1比光学检测装置100的焦距Db大的情况下，控制部500可以控制驱动部400，使得上述光学检测装置100下降以调整光学检测装置100的位置。
[0101] 上述驱动部400可以使光学检测装置100沿着第二方向DR2的相反方向移动第一距离ΔDa1。上述第一距离ΔDa1可以与第一距离数据Da1与光学检测装置100的焦距Db之差相同。例如，在第一距离数据Da1比光学检测装置100的焦距Db大的情况下，第一距离ΔDa1可以与从第一距离数据Da1中减去光学检测装置100的焦距Db后的值相同。即，驱动部400使光学检测装置100下降第一距离数据Da1与光学检测装置100的焦距Db之差(即，第一距离ΔDa1)，以使光学检测装置100与被检测体SUB之间的校正后的间隔距离Da'与光学检测装置
100的焦距Db可以变得相同。通过调整上述光学检测装置100的位置，光学检测装置100的焦点可以形成在被检测体SUB的一个表面上。
[0102] 参照图6，压力测量部200测量的腔室CH的内部的压力P可以是第二压力P2。上述第二压力P2可以小于第一压力P1。即，图6的腔室CH的真空度可以大于图5的腔室CH的真空度。
上述压力测量部200可以将测量的腔室CH的内部的第二压力P2传输到控制部500。
[0103] 控制部500可以利用“真空度—间隔距离校正曲线”来计算与上述测量的压力测量部200的第二压力P2对应的第二距离数据Da2。上述第二距离数据Da2可以不同于第一距离数据Da1。上述第二距离数据Da2可以包括光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离信息，并且可以在腔室CH内的压力为第二压力P2的情况下被认为是光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离Da。在比较了上述第二距离数据Da2与光学检测装置100的焦距Db并判断出第二距离数据Da2比光学检测装置100的焦距Db小的情况下，控制部500可以控制驱动部400，使得上述光学检测装置100上升以调整光学检测装置100的位置。
[0104] 上述驱动部400可以使光学检测装置100沿着第二方向DR2移动第二距离ΔDa2。上述第二距离ΔDa2可以与第二距离数据Da2与光学检测装置100的焦距Db之差相同。例如，在第二距离数据Da2比光学检测装置100的焦距Db小的情况下，第二距离ΔDa2可以与从光学检测装置100的焦距Db中减去第二距离数据Da2后的值相同。即，驱动部400使光学检测装置
100上升第二距离数据Da2与光学检测装置100的焦距Db之差(即，第二距离ΔDa2)，使得光学检测装置100与被检测体SUB之间的校正后的间隔距离Da'与光学检测装置100的焦距Db可以变得相同。通过调整上述光学检测装置100的位置，光学检测装置100的焦点可以形成在被检测体SUB的一个表面上。
[0105] 图7是示出利用根据另一实施例的干燥检测装置来执行干燥检测工艺的一个示例的示意图。
[0106] 参照图7，根据本实施例的干燥检测装置1的驱动部400_1与图4的干燥检测装置1的不同之处在于，可以调整光学检测装置100的焦距Db。具体地，驱动部400_1可以起到如下作用：使上述光学检测装置100的焦点沿着第二方向DR2移动，以调整成被检测体SUB与光学检测装置100之间的间隔距离Da与校正后的焦距Db'变得相同。
[0107] 在另一实施例中，在上述计算的距离数据值Da与光学检测装置100的焦距Db不同的情况下，控制部500可以控制上述驱动部400_1，使得光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离与光学检测装置100的校正后的焦距Db'变得相同。具体地，在由上述驱动部
400_1校正光学检测装置100的焦距Db'之后，在判断为计算的距离数据值Da与校正后的光学检测装置100的焦距Db'相同的情况下，光学检测装置100可以拍摄被检测体SUB的一个表面以生成检测图像。
[0108] 另外，当上述计算的距离数据值Da与光学检测装置100的焦距Db相同时，在控制部
500不另外对光学检测装置100的焦距进行校正的情况下，光学检测装置100可以拍摄被检测体SUB的一个表面以生成检测图像。
[0109] 图8和图9是用于说明利用图7的干燥检测装置的、对光学检测装置的根据腔室的真空度的校正操作的示意图。
[0110] 参照图8，压力测量部200测量的腔室CH的内部的压力P可以是第一压力P1。上述压力测量部200可以将测量的腔室CH的内部的第一压力P1传输到控制部500。
[0111] 控制部500可以利用“真空度—间隔距离校正曲线”来计算与上述测量的压力测量部200的第一压力P1对应的第一距离数据Da1。上述第一距离数据Da1可以包括光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离信息，并且可以被认为是光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离Da。在比较了上述第一距离数据Da1与光学检测装置100的焦距Db1并判断出第一距离数据Da1比光学检测装置100的焦距Db1大的情况下，控制部500可以控制驱动部400_1，从而调整上述光学检测装置100的焦距Db1。
[0112] 驱动部400_1可以驱动光学检测装置100的焦距，使得现有的焦距Db1增加第一距离ΔDb1以使校正后的焦距Db1'变得与第一距离数据Da1相同。上述第一距离ΔDb1可以与第一距离数据Da1与现有的焦距Db1之差相同。例如，在第一距离数据Da1比现有的焦距Db1大的情况下，第一距离ΔDb1可以与从第一距离数据Da1中减去现有的焦距Db1后的值相同。
即，驱动部400_1将光学检测装置100的焦点调整第一距离数据Da1与光学检测装置100的现有的焦距Db1之差(即，第一距离ΔDb1)，使得光学检测装置100的校正后的焦距Db1'与第一距离数据Da1可以变得相同。通过调整上述光学检测装置100的焦距Db1，光学检测装置100的焦点可以形成在被检测体SUB的一个表面上。
[0113] 参照图9，压力测量部200测量的腔室CH的内部的压力P可以是第二压力P2。上述第二压力P2可以小于第一压力P1。即，图9的腔室CH的真空度可以大于图8的腔室CH的真空度。
上述压力测量部200可以将测量的腔室CH的内部的第二压力P2传输到控制部500。
[0114] 控制部500可以利用“真空度—间隔距离校正曲线”来计算与上述测量的压力测量部200的第二压力P2对应的第二距离数据Da2。上述第二距离数据Da2可以包括光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离信息，并且可以被认为是光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离Da。在比较了上述第二距离数据Da2与光学检测装置100的焦距Db2并判断出第二距离数据Da2比光学检测装置100的焦距Db2小的情况下，控制部500可以控制驱动部400_1，从而调整上述光学检测装置100的焦距Db2。
[0115] 驱动部400_1可以驱动光学检测装置100的焦距，使得现有的焦距Db2减小第二距离ΔDb2以使校正后的焦距Db2'变得与第二距离数据Da2相同。上述第二距离ΔDb2可以与第二距离数据Da2与现有的焦距Db2之差相同。例如，在第二距离数据Da2比现有的焦距Db2小的情况下，第二距离ΔDb2可以与从现有的焦距Db2中减去第二距离数据Da2后的值相同。
即，驱动部400_1将光学检测装置100的焦点调整第二距离数据Da2与光学检测装置100的现有的焦距Db2之差(即，第二距离ΔDb2)，使得光学检测装置100的校正后的焦距Db2'与第二距离数据Da2可以变得相同。通过调整上述光学检测装置100的焦距Db2，光学检测装置100的焦点可以形成在被检测体SUB的一个表面上。
[0116] 以下，将说明利用图1的干燥检测装置1的被检测体SUB的干燥检测方法。
[0117] 图10是示出根据一个实施例的干燥检测方法的流程图。
[0118] 参照图10，根据一个实施例的干燥检测方法包括：对干燥检测装置1进行设置的步骤(S100)、使腔室CH内的真空度(压力)变化并干燥被检测体SUB的处理液的步骤(S200)、以及利用干燥检测装置1来检测被检测体SUB的干燥状态的步骤(S300)。
[0119] 图11是示出图10的步骤S100的一个示例的流程图。
[0120] 参照图11，对干燥检测装置1进行设置的步骤(S100)可以包括：在大气状态(P＝P0)下测量光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离(以下称为“第一间隔距离”，Da＝Da0)的步骤(S110)；形成腔室CH内的真空的步骤(S120)；测量光学检测装置100与被检测体SUB之间的根据腔室CH内的真空度的间隔距离Da的步骤(S130)；利用腔室CH内的真空度以及光学检测装置100与被检测体SUB之间的与腔室CH内的真空度对应的间隔距离Da来对根据真空度的间隔距离进行插值的步骤(S140)；以及获取“真空度—间隔距离校正曲线”的步骤(S150)。
[0121] 在测量光学检测装置100与被检测体SUB之间的根据腔室CH内的真空度的间隔距离Da的步骤(S130)中，可以测量与多个真空度对应的光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离。例如，测量光学检测装置100与被检测体SUB之间的根据腔室CH内的真空度的间隔距离Da的步骤(S130)可以包括：在第一真空度(P＝P1)下测量光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离(以下称为“第二间隔距离”，Da＝Da1)的步骤(S130_1)、以及在第N真空度(P＝Pn，但n是2以上的自然数)下测量光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离(以下称为“第n+1间隔距离”，Da＝Dan)的步骤(S130_n)。
[0122] 图12是示出用于获取图11的真空度(腔室内的压力)—间隔距离校正曲线的工艺的示意图。图13和图14是用于说明获得真空度(腔室内的压力)—间隔距离校正曲线的工艺的曲线图。
[0123] 首先，参照图12的(a)，在大气状态(P＝P0)下测量光学检测装置100与被检测体SUB之间的第一间隔距离Da0(图11的S110)。
[0124] 在测量光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离Da的方法中，可以利用激光模块LA或光学检测装置100进行测量。在利用光学检测装置100进行测量的情况下，当利用光学检测装置100来形成焦点时，相应焦距可以被认为是光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离Da。然而，测量光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离Da的方法不限于此。
[0125] 例如，利用激光模块LA，以在大气状态(P＝P0)下测量光学检测装置100与被检测体SUB之间的第一间隔距离Da0。
[0126] 随后，使腔室CH的内部的压力减压，以形成腔室CH内的真空(图11的S120)。
[0127] 随后，参照图12的(b)和图12的(c)，使腔室CH的真空度变化，并且测量与腔室CH的真空度对应的光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离Da(图11的S130)。
[0128] 具体地，参照图12的(b)，在第一真空度(P＝P1)下测量光学检测装置100与被检测体SUB之间的第二间隔距离Da1(图11的S130_1)。
[0129] 可以利用压力测量部200测量在第一真空度(P＝P1)下的腔室CH的内部的压力P。
压力测量部200可以将在第一真空度(P＝P1)下测量的腔室CH的内部的压力(P＝P1，第一压力)传输到控制部500。
[0130] 随后，利用激光模块LA测量第一真空度(P＝P1)下的光学检测装置100与被检测体SUB之间的第二间隔距离Da1。
[0131] 随后，参照图12的(c)，在第n真空度(P＝Pn)下测量光学检测装置100与被检测体SUB之间的第n+1间隔距离Dan(图11的S130_n)。
[0132] 可以利用压力测量部200测量在第n真空度(P＝Pn)下的腔室CH的内部的压力P。压力测量部200可以将在第n真空度(P＝Pn)下测量的腔室CH的内部的压力(P＝Pn，第n压力)传输到控制部500。上述第n压力Pn可以小于第一压力P1。
[0133] 随后，利用激光模块LA测量第n真空度(P＝Pn)下的光学检测装置100与被检测体SUB之间的第n+1间隔距离Dan。
[0134] 随后，基于上述测量的数据来对根据腔室的真空度的间隔距离进行插值(图11的S140)。
[0135] 具体地，参照图13，将测量的与大气状态(P＝P0)和第一真空度至第n真空度P(P＝P1、P2、……、Pn‑1、Pn)对应的间隔距离Da0、Da1、Da2、Da3、……、Dan‑1、Dan标记在曲线图中。曲线图的X轴表示腔室CH的内部的压力P或腔室CH的真空度，并且上述曲线图的Y轴可以是光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离Da。上述腔室CH的内部的压力P的单位可以是atm，并且光学检测装置100与被检测体SUB之间的间隔距离Da的单位可以是mm，但不限于此。上述曲线图可以包括多个间隔开的点。在本实施例中，上述曲线图可以包括与大气状态(P＝P0)以及第1真空度至第n真空度(P＝P1、P2、……、Pn‑1、Pn)对应的n+1个点。
[0136] 随后，参照图14，可以基于多个n+1个点获得腔室CH的真空度与间隔距离之间的相关关系，并且对根据真空度的间隔距离进行插值。获得上述相关关系并进行插值的方法不受限制。例如，可以利用指数函数、多项函数、线性函数等对根据真空度的间隔距离进行插值。随后，可以通过对根据真空度的间隔距离进行插值来获取如图14所示的包括根据真空度的间隔距离为连续的函数的“真空度—间隔距离校正曲线lr”(图11的S150)。
[0137] 随后，可以使腔室CH内的真空度变化并干燥被检测体SUB的处理液(图10的S200)。
[0138] 如上所述，在减压腔室CH内的压力的情况下，处理液的汽化点可以降低，从而被检测体SUB的处理液可以汽化而干燥。此外，图10中示出了干燥处理液的干燥工艺和检测处理液的干燥状态的干燥检测工艺是单独执行的，但不限于此。例如，也可以在使腔室CH内的压力减压并执行干燥处理液的干燥工艺的同时，利用光学检测装置100来实时检测处理液的干燥状态。
[0139] 图15是示出图10的步骤S300的一个示例的流程图。
[0140] 参照图15，检测干燥状态的步骤(S300)可以包括：传输检测开始信号的步骤(S310)、测量腔室内的压力(真空度)的步骤(S320)、利用“真空度—间隔距离校正曲线”来计算包括与腔室的真空度对应的间隔距离信息的距离数据的步骤(S330)、将上述距离数据与焦距进行比较并在其不同的情况下调整光学检测装置使得光学检测装置与被检测体之间的间隔距离与焦距变得相同的步骤(S340)、以及判断焦点是否形成的步骤(S350)。在判断为未形成上述焦点的情况(S350的否)下，可以重复步骤S320、S330和S340。判断为形成了上述焦点的情况(S350的是)还可以包括：利用光学检测装置获取检测图像的步骤(S360)、以及判断检测是否结束的步骤(S370)。关于上述检测是否结束，在判断为处理液全部干燥的情况(S370的是)下，检测可以结束(S380)。在判断为处理液残留一部分的情况(S370的否)下，可以重复步骤S320、S330、S340、S350、S360。
[0141] 图16是利用根据一个实施例的干燥检测装置的作为检测对象的显示装置的平面图。
[0142] 参照图16，示出了作为被检测体SUB的一个示例的显示装置10。
[0143] 在图16中，定义了第三方向X、第四方向Y和第五方向Z。第三方向X和第四方向Y可以在一个平面上彼此垂直。第五方向Z可以是与第三方向X和第四方向Y所处的平面垂直的方向。第五方向Z可以是显示装置10的显示方向。
[0144] 显示装置10可以包括基础基板BSUB、第一电极210和第二电极220、以及多个发光元件ED。
[0145] 第一电极210和第二电极220可以在基础基板BSUB的一个表面上彼此间隔布置。第一电极210和第二电极220可以在第三方向X上彼此间隔布置。
[0146] 多个发光元件ED可以布置在第一电极210与第二电极220之间。发光元件ED可以包括第一半导体层31、第二半导体层32和有源层33。发光元件ED可以是沿着一个方向延伸的形状。上述第一半导体层31和第二半导体层32可以沿着一个方向间隔开。有源层33可以布置在第一半导体层31与第二半导体层32之间。发光元件ED可以在第一电极210与第二电极
220之间对准成一个端部布置在第一电极210上并且另一端部位于第二电极220上。发光元件ED的一个端部与第一电极210电连接，并且另一端部与第二电极220电连接，从而可以根据电信号发光。因此，在发光元件ED从第一电极210与第二电极220之间移动到另一空间的情况下，发光元件ED可不发光。
[0147] 图17至图19是示出第一真空度下的干燥检测方法的示意图。图20是利用根据一个实施例的光学检测装置输出的第一真空度下的第一检测图像。
[0148] 参照图17，在第一真空度P1下，显示装置10'可以包括基础基板BSUB、第一电极
210、第二电极220、多个发光元件ED和溶剂SV'。同时，虽然未示出，但多个发光元件ED可以以分散在溶剂SV'中的状态喷射到第一电极210和第二电极220上。因此，在第一真空度P1下，显示装置10'可以包括残留在基础基板BSUB上的溶剂SV'。
[0149] 压力测量部200可以测量第一真空度下的腔室CH的内部的压力P并传输到控制部
500。例如，第一真空度下的腔室CH的内部的压力P可以是第一压力P1。随后，控制部500可以利用图14的“真空度—间隔距离校正曲线lr”来计算与第一压力P1对应的距离数据Da1(“第一距离数据”)。上述第一距离数据Da1可以包括光学检测装置100与基础基板BSUB之间的间隔距离信息。
[0150] 随后，如图18所示，在比较了第一距离数据Da1与焦距Db并判断出第一距离数据Da1比焦距Db大的情况下，控制部500可以控制驱动部400，使得光学检测装置100下降第一距离ΔDa1。光学检测装置100通过上述驱动部400下降第一距离ΔDa1，使得校正后的光学检测装置100与基础基板BSUB之间的间隔距离Da1'可以变得与焦距Db相同。
[0151] 随后，参照图19，在判断为基础基板BSUB之间的间隔距离Da1'与焦距Db相同的情况下，利用光学检测装置100拍摄的焦点可以形成在基础基板BSUB的一个表面上。因此，可以利用光学检测装置100来生成第一真空度P1下的第一检测图像IMG1。随后，光学检测装置
100可以将第一检测图像IMG1传输到控制部500。
[0152] 上述第一检测图像IMG1可以如图20所示。在溶剂SV'未在基础基板BSUB上干燥的情况下，如图20所示，溶剂SV'所处的部分可以显示为暗部SV'_IMG。
[0153] 图21至图23是示出第二真空度下的干燥检测方法的示意图。图24是利用根据一个实施例的光学检测装置输出的第二真空度下的第二检测图像。
[0154] 如图21所示，在第二真空度P2下，显示装置10'可以包括基础基板BSUB、第一电极
210、第二电极220、多个发光元件ED和溶剂SV”。相比第一真空度P1，第二真空度P2可以是高真空。因此，涂布在基础基板BSUB上的溶剂SV”可以干燥一部分。
[0155] 压力测量部200可以测量第二真空度下的腔室CH的内部的压力P并传输到控制部
500。例如，第二真空度下的腔室CH的内部的压力P可以是第二压力P2。随后，控制部500可以利用图14的“真空度—间隔距离校正曲线lr”来计算与第二压力P2对应的距离数据Da2(“第二距离数据”)。上述第二距离数据Da2可以包括光学检测装置100与基础基板BSUB之间的间隔距离信息。
[0156] 随后，如图22和图23所示，在比较了第二距离数据Da2与焦距Db并判断出二者相同的情况下，控制部500可以利用光学检测装置100来拍摄基础基板BSUB的一个表面，而无需另外的校正。在这种情况下，由于第二距离数据Da2与焦距Db相同，因此拍摄的焦点可以形成在基础基板BSUB的一个表面上。因此，可以利用光学检测装置100来生成第二真空度P2下的第二检测图像IMG2。随后，光学检测装置100可以将第二检测图像IMG2传输到控制部500。
[0157] 上述第二检测图像IMG2可以如图24所示。在溶剂SV”的一部分在基础基板BSUB上干燥的情况下，与溶剂SV”对应的区域可以显示为暗部SV”_IMG，并且溶剂SV”干燥后的区域中可以显示有与由于溶剂SV”的干燥而暴露的第一电极210对应的第一图像210_IMG、与第二电极220对应的第二图像220_IMG以及与发光元件ED对应的第三图像ED_IMG。在检测图像如第二检测图像IMG2一样包括一部分暗部的情况下，可以判断为上述溶剂SV”并未完全干燥。在这种情况下，可以不结束干燥工艺和干燥检测工艺并再次进行检测。
[0158] 图25至图27是示出第三真空度下的干燥检测方法的示意图。图28是利用根据一个实施例的光学检测装置输出的第三真空度下的第三检测图像。
[0159] 如图25所示，在第三真空度P3下，显示装置10可以包括基础基板BSUB、第一电极
210、第二电极220和多个发光元件ED。相比第一真空度P1和第二真空度P2，第三真空度P3可以是高真空。因此，涂布在基础基板BSUB上的溶剂可以完全干燥。
[0160] 压力测量部200可以测量第三真空度下的腔室CH的内部的压力P并传输到控制部
500。例如，第三真空度下的腔室CH的内部的压力P可以是第三压力P3。随后，控制部500可以利用图14的“真空度—间隔距离校正曲线lr”来计算与第三压力P3对应的距离数据Da3(“第三距离数据”)。上述第三距离数据Da3可以包括光学检测装置100与基础基板BSUB之间的间隔距离信息。
[0161] 随后，如图25和图26所示，在比较了第三距离数据Da3与焦距Db并判断出第三距离数据Da3比焦距Db小的情况下，控制部500可以控制驱动部400，使得光学检测装置100上升第三距离ΔDa3。光学检测装置100通过上述驱动部400上升第三距离ΔDa3，使得校正后的光学检测装置100与基础基板BSUB之间的间隔距离Da3'可以变得与焦距Db相同。
[0162] 随后，参照图27，在判断为光学检测装置100与基础基板BSUB之间的间隔距离Da3'与焦距Db相同的情况下，利用光学检测装置100拍摄的焦点可以形成在基础基板BSUB的一个表面上。因此，可以利用光学检测装置100来生成第三真空度P3下的第三检测图像IMG3。
随后，光学检测装置100可以将第三检测图像IMG3传输到控制部500。
[0163] 上述第三检测图像IMG3可以如图28所示。在溶剂在基础基板BSUB上完全干燥的情况下，第三检测图像IMG3可以不包括显示为暗部的区域。因此，第三检测图像IMG3不包括与溶剂对应的暗部区域，并且在这种情况下，可以仅包括与第一电极210对应的第一图像210_IMG、与第二电极220对应的第二图像220_IMG以及与发光元件ED对应的第三图像ED_IMG。因此，基于不包括暗部区域的第三检测图像IMG3，可以判断出溶剂已全部干燥。在这种情况下，可以结束干燥工艺和干燥检测工艺。
[0164] 图29是利用根据一个实施例的光学检测装置输出的第三真空度下的发光元件的对准出现不良的第三检测图像。
[0165] 参照图29，基于溶剂全部干燥的第三检测图像IMG3_1，也可以确认发光元件ED的对准是否不良。具体地，第三检测图像IMG3_1可以包括与发光元件ED对应的第三图像ED_IMG。上述第三图像ED_IMG可以包括第一子图像ED1_IMG和第二子图像ED2_IMG，其中，第一子图像ED1_IMG位于第一图像210_IMG与第二图像220_IMG之间，第二子图像ED2_IMG不位于第一图像210_IMG与第二图像220_IMG之间。第一子图像ED1_IMG可以是与对准未出现不良的发光元件ED对应的图像，且第二子图像ED2_IMG可以是与对准出现不良的发光元件ED对应的图像。因此，通过本检测图像也可以确认发光元件的对准是否不良。通过本干燥检测方法，可以实时监控在干燥工艺中可能出现的溶剂残留或发光元件的对准不良。因此，显示装置10的制造可靠性可以提高。
[0166] 以上参照附图对本实用新型的实施例进行了说明，但是本实用新型所属技术领域的普通技术人员应该可以理解，本实用新型在不改变其技术思想或必要特征的情况下，能够以其他具体形态实施。因此，应该理解，以上描述的实施例在所有方面都是示例性的，而不是限制性的。