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一种适用于被动元件的双面覆膜设备

实用新型专利无效专利
  • 申请号:
    CN201220200689.9
  • IPC分类号:C23C14/56;C23C16/54
  • 申请日期:
    2012-05-07
  • 申请人:
    钜永真空科技股份有限公司
著录项信息
专利名称一种适用于被动元件的双面覆膜设备
申请号CN201220200689.9申请日期2012-05-07
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C23C14/56IPC分类号C;2;3;C;1;4;/;5;6;;;C;2;3;C;1;6;/;5;4查看分类表>
申请人钜永真空科技股份有限公司申请人地址
中国台湾台南市安定区港南里港口240-7号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人钜永真空科技股份有限公司当前权利人钜永真空科技股份有限公司
发明人李智渊;蔡硕文;黄耀贤;蔡俊毅
代理机构深圳市铭粤知识产权代理有限公司代理人杨林;金玉兰
摘要
一种适用于被动元件的双面覆膜设备,包括载入腔体、等离子清洁腔体、第一低压腔体、制程腔体、第二低压腔体、载出腔体以及输送系统。依据本实用新型之整体设计,待镀物于制程腔体内即可完成被动元件的双面覆膜之制程。因此本实用新型精简了被动元件的双面覆膜的制程周期,进而降低了制程的复杂度以及成本。另外,本实用新型更可维持制程腔体内的低压一致性。此外,待镀物可于第一缓冲空间、第二缓冲空间或第三缓冲空间内,被进行缓冲动作,可进一步增加进行被动元件的双面覆膜的制程时的流畅度。

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