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基于X射线几何投影莫尔条纹的精密位移测量装置及方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201410153744.7
  • IPC分类号:G01B15/00
  • 申请日期:
    2014-04-16
  • 申请人:
    中国科学技术大学
著录项信息
专利名称基于X射线几何投影莫尔条纹的精密位移测量装置及方法
申请号CN201410153744.7申请日期2014-04-16
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2014-07-02公开/公告号CN103900502A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01B15/00IPC分类号G;0;1;B;1;5;/;0;0查看分类表>
申请人中国科学技术大学申请人地址
安徽省合肥市包河区金寨路96号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学技术大学当前权利人中国科学技术大学
发明人吴自玉;王圣浩;王志立;高昆;韩华杰;张灿;杨蒙
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人宋焰琴
摘要
本发明公开了一种基于X射线几何投影莫尔条纹的精密位移测量装置,该装置包括:同步辐射加速器,用于产生平行同步X射线光;双晶单色器将X射线光转换为单一波长、高准直的平行X射线;X射线垂直照射顺序平行放置的指示光栅和标尺光栅,以产生莫尔条纹;标尺光栅与运动部件连接在一起;X射线探测器,用于探测莫尔条纹并输出相应的电信号;条纹细分和显示装置,用于对X射线探测器输出的电信号进行条纹细分和显示处理。本发明还公开了一种基于X射线几何投影莫尔条纹的精密位移测量方法。本发明能够提高现有光栅莫尔条纹位移测量技术的分辨率和灵敏度,增加两块光栅之间的距离,降低光栅安装过程中的难度,提高系统使用的稳定性和可靠性。

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