足保健装置

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专利名称	足保健装置
申请号	CN200520005695.9	申请日期	2005-03-16
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	A61H33/00 ? IPC结构图谱： A 人类生活必需 A6 保健；救生；娱乐 A61 医学或兽医学；卫生学 A61H 理疗装置，例如用于寻找或刺激体内反射点的装置；人工呼吸；按摩；用于特殊治疗或保健目的或人体特殊部位的洗浴装置（电疗法、磁疗法、放射疗法、超声疗法入A61N） A61H33/00 专为治疗或保健目的的洗浴装置（A61H35/00优先；半水栖性灌肠器入A61M9/00；采用离子化液体的电浴或磁浴入A61N1/44）〔6〕	IPC分类号	A;6;1;H;3;3;/;0;0;;;A;6;1;H;3;5;/;0;0;;;A;4;7;K;3;/;0;2;2查看分类表>
申请人	伟嘉电业有限公司	申请人地址	中国香港变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	伟嘉电业有限公司	当前权利人	伟嘉电业有限公司
发明人	克劳斯·哈夫曼
代理机构	北京三友知识产权代理有限公司	代理人	李强

摘要

一种足保健装置，具有容纳液体的盆和按摩装置，该按摩装置包括电机和一个或多个相互更换的并由电机转动的按摩部件，在驱动按摩部件的驱动链中，传递由电机驱动的驱动轴转动的力传递装置与带有按摩上部件的并驱动它的输出轴偶接，其输出轴的转动轴线与驱动轴的转动轴线呈角度设置。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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