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光照射装置及光照射方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200980122247.8
  • IPC分类号:B01J19/12;H01L21/301
  • 申请日期:
    2009-05-22
  • 申请人:
    琳得科株式会社
著录项信息
专利名称光照射装置及光照射方法
申请号CN200980122247.8申请日期2009-05-22
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2011-05-11公开/公告号CN102056658A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B01J19/12IPC分类号B;0;1;J;1;9;/;1;2;;;H;0;1;L;2;1;/;3;0;1查看分类表>
申请人琳得科株式会社申请人地址
日本国东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人琳得科株式会社当前权利人琳得科株式会社
发明人小林贤治
代理机构上海金盛协力知识产权代理有限公司代理人段迎春
摘要
一种光照射装置及光照射方法,其光照射装置(10)包括把在电路形成面上粘贴了具有紫外线硬化型粘合剂的粘合片(S)的半导体晶片(W)作为被照射物进行支承的支承机构(11);和在间隔规定距离的位置上具有焦点轴(P)并被设置成可以进行摇头动作的紫外线照射机构(13)。支承机构(11)被支承于多关节机械手(12)上,当紫外线照射机构(13)做摇头动作的时候,让晶片(W)相对地位移,以使粘合片(S)的粘合剂层面(SA)不偏离焦点轴(P)的位置。

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