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具有充裕驱动电流和减小结漏电流的半导体器件

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200610106179.4
  • IPC分类号:H01L27/02;H01L29/78;H01L21/82;H01L21/336
  • 申请日期:
    2006-07-20
  • 申请人:
    海力士半导体有限公司
著录项信息
专利名称具有充裕驱动电流和减小结漏电流的半导体器件
申请号CN200610106179.4申请日期2006-07-20
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2007-09-26公开/公告号CN101043031
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/02IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;0;2;;;H;0;1;L;2;9;/;7;8;;;H;0;1;L;2;1;/;8;2;;;H;0;1;L;2;1;/;3;3;6查看分类表>
申请人海力士半导体有限公司申请人地址
韩国京畿道 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人海力士半导体有限公司当前权利人海力士半导体有限公司
发明人郑星雄;李相敦
代理机构北京市柳沈律师事务所代理人陶凤波;侯宇
摘要
本发明公开了一种半导体器件及其制造方法。所述半导体器件包括有源区、包含垂直沟道结构的阶梯状凹形沟道区域、栅绝缘膜和栅结构。有源区由形成于半导体衬底上的器件隔离结构所界定。阶梯状凹形沟道区域形成于有源区中。垂直绝缘体上硅(SOI)沟道结构在栅区纵向上设置于器件隔离结构的侧壁处。栅绝缘膜设置于包含阶梯状凹形沟道区域的有源区之上。栅结构设置于栅区的阶梯状凹形沟道区域之上。

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