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设定点发生器、光刻设备、光刻设备操作方法、以及器件制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201880034136.0
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2018-04-18
  • 申请人:
    ASML荷兰有限公司
著录项信息
专利名称设定点发生器、光刻设备、光刻设备操作方法、以及器件制造方法
申请号CN201880034136.0申请日期2018-04-18
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-01-07公开/公告号CN110663003A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人ASML荷兰有限公司申请人地址
荷兰维德霍温 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人ASML荷兰有限公司当前权利人ASML荷兰有限公司
发明人让-菲利普·泽维尔·范达默;L·J·A·凡鲍克霍文;P·F·范吉欧斯;G·彼得斯
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人胡良均
摘要
本发明涉及一种设定点发生器,用于移动光刻设备的图案形成装置,所述图案形成装置能够在辐射束的横截面中赋予所述辐射束图案以形成图案化的辐射束,其中所述设定点发生器包括用于所述图案形成装置的有限数目种移动轮廓,并且其中所述设定点发生器配置成基于期望的移动轮廓选择所述有限数目种移动轮廓中的一种并输出选择的移动轮廓作为用于所述图案形成装置的设定点。

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