无掩模微成影中用时间和/或功率调制获得剂量灰度化

发明专利无效专利

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	无掩模微成影中用时间和/或功率调制获得剂量灰度化
申请号	CN200410058823.6	申请日期	2004-07-30
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2005-02-16	公开/公告号	CN1580958
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	ASML控股股份有限公司	申请人地址	荷兰费尔德霍芬变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	ASML控股股份有限公司	当前权利人	ASML控股股份有限公司
发明人	温赛斯劳·A.·赛布哈;贾森·D.·星特斯坦纳;艾扎特·拉迪普夫;杰拉尔德·沃尔皮
代理机构	中国国际贸易促进委员会专利商标事务所	代理人	付建军

摘要

在微成影应用中，例如需要控制印刷线的位置或宽度。控制这些图案及其分辨率的有效方法具有尽可能多的灰度等级。本发明包括灰度化的方法，其中，曝光时间的调制会增加对象上灰度等级的数目。此外，本发明包括调制曝光光束的功率以提供额外的灰度等级的方法。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供