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一种低蚀刻的光阻清洗液组合物

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201510999611.6
  • IPC分类号:G03F7/42
  • 申请日期:
    2015-12-28
  • 申请人:
    安集微电子科技(上海)有限公司
著录项信息
专利名称一种低蚀刻的光阻清洗液组合物
申请号CN201510999611.6申请日期2015-12-28
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2017-07-04公开/公告号CN106919012A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/42IPC分类号G;0;3;F;7;/;4;2查看分类表>
申请人安集微电子科技(上海)有限公司申请人地址
上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区(南区)T6-9幢底层 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人安集微电子科技(上海)股份有限公司当前权利人安集微电子科技(上海)股份有限公司
发明人郑玢;刘兵;孙广胜;黄达辉
代理机构北京大成律师事务所代理人李佳铭
摘要
本发明公开了一种低蚀刻的光阻清洗液组合物,其含有(a)醇胺(b)溶剂(c)水(d)腐蚀抑制剂(e)醛类化合物。该清洗液不含氟化物和羟胺,且能够快速地去除经过硬烤、干法刻蚀、灰化和等离子注入引起复杂化学变化后交联硬化的光刻胶,能够在实现去除金属线(metal)、通孔(via)和金属垫(Pad)晶圆上的光阻残留物的同时,对基材(如金属铝,金属钨,非金属二氧化硅等)基本没有攻击。本发明的清洗液在半导体晶片清洗等领域具有良好的应用前景。

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