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具有氮化硅缓冲层的显示设备及其制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110263145.0
  • IPC分类号:H01L27/32
  • 申请日期:
    2021-03-11
  • 申请人:
    三星显示有限公司
著录项信息
专利名称具有氮化硅缓冲层的显示设备及其制造方法
申请号CN202110263145.0申请日期2021-03-11
法律状态公开申报国家中国
公开/公告日2021-09-14公开/公告号CN113394256A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/32IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;3;2查看分类表>
申请人三星显示有限公司申请人地址
韩国京畿道龙仁市 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人三星显示有限公司当前权利人三星显示有限公司
发明人郑镕彬;禹荣杰;郭银珍
代理机构北京铭硕知识产权代理有限公司代理人田野;韩芳
摘要
公开了一种显示设备和一种制造该显示设备的方法。该显示设备包括基底。第一缓冲层设置在基底之上。第一缓冲层包含氮化硅并且具有大于约0.36且等于或小于约1.01的键合到硅的氢的原子百分比。薄膜晶体管设置在第一缓冲层之上。薄膜晶体管包括有源层。显示元件电连接到薄膜晶体管。

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