记录介质及其制造方法、记录介质的母盘及其制造方法

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专利名称	记录介质及其制造方法、记录介质的母盘及其制造方法
申请号	CN200810128534.7	申请日期	2008-06-19
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2008-12-24	公开/公告号	CN101329883
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	索尼株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	索尼株式会社	当前权利人	索尼株式会社
发明人	诹访部正次;高瀬史则
代理机构	北京市柳沈律师事务所	代理人	彭久云

摘要

本发明公开了一种记录介质及其制造方法、记录介质的母盘及其制造方法。该记录介质具有：具有第一区和第二区的基板，该第一区中形成有第一凹槽，该第二区中形成有第二凹槽；设置在基板上的至少一个信息层；设置在信息层上的保护层。预定的二进制信息预先记录在第一凹槽上，且第一凹槽比第二凹槽浅或窄。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

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