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和共面波导集成的侧面进光的10Gb/s APD管芯及其制作工艺

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200610019601.2
  • IPC分类号:H01L31/107;H01L31/18
  • 申请日期:
    2006-07-11
  • 申请人:
    武汉电信器件有限公司
著录项信息
专利名称和共面波导集成的侧面进光的10Gb/s APD管芯及其制作工艺
申请号CN200610019601.2申请日期2006-07-11
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2006-12-27公开/公告号CN1885567
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L31/107IPC分类号H;0;1;L;3;1;/;1;0;7;;;H;0;1;L;3;1;/;1;8查看分类表>
申请人武汉电信器件有限公司申请人地址
湖北省武汉市洪山区邮科院路88号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人武汉电信器件有限公司当前权利人武汉电信器件有限公司
发明人丁国庆
代理机构武汉宇晨专利事务所代理人黄瑞棠
摘要
本发明公开了一种和共面波导集成的侧面进光的10Gb/s APD管芯及其制作工艺,涉及一种和共面波导集成的侧面进光的10Gb/s APD,尤其涉及一种二台阶连体式管芯的结构及其制作工艺。本管芯整体结构为一种和共面波导集成的、二台阶连体式管芯,从下到上,InP掺铁的半绝缘衬底、下台阶和上台阶依次连接;本管芯制作工艺包括MOCVD外延,PECVD,光刻与化学腐蚀,化学清洗,扩散,反应离子刻蚀,电子束蒸发,金属剥离,钝化处理,管芯分离;制作工艺最重要的是化学腐蚀和管芯分离。本管芯是高速率、长距离光通信系统的关键光电子器件;管芯和共面波导一体化设计与制作,不仅简化了工艺,降低了成本,而且减少了传输损耗,容易阻抗匹配;本发明解决了侧面进光面的平整性问题。

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