灰阶掩膜版、阵列基板及其制备方法、显示装置

发明专利有效专利

申请号：
CN201210291577.3
IPC分类号：G03F1/00;G03F1/60;H01L27/02
申请日期：
2012-08-15
申请人：
京东方科技集团股份有限公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	灰阶掩膜版、阵列基板及其制备方法、显示装置
申请号	CN201210291577.3	申请日期	2012-08-15
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2012-11-28	公开/公告号	CN102799059A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备〔3，2012.01〕	IPC分类号	G;0;3;F;1;/;0;0;;;G;0;3;F;1;/;6;0;;;H;0;1;L;2;7;/;0;2查看分类表>
申请人	京东方科技集团股份有限公司	申请人地址	北京市朝阳区酒仙桥路10号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	京东方科技集团股份有限公司	当前权利人	京东方科技集团股份有限公司
发明人	惠官宝;张锋
代理机构	北京路浩知识产权代理有限公司	代理人	韩国胜

摘要

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种灰阶掩膜版、阵列基板及其制备方法、显示装置。该灰阶掩膜版包括：掩膜版主体，掩膜版主体上具有驱动电路图案区域和像素显示图案区域，驱动电路图案区域中包括第一源电极掩膜图案和第一漏电极掩膜图案，该两者之间具有第一沟道区，其内设有第一灰阶线条图案；像素显示图案区域中包括第二源电极掩膜图案和第二漏电极掩膜图案，该两者之间具有第二沟道区，其内设有第二灰阶线条图案；第一灰阶线条图案的宽度大于第二灰阶线条图案的宽度。本发明提供的灰阶掩膜版，可有效避免驱动电路区域中TFT产生过刻蚀的缺陷，最大程度确保驱动电路正常工作，提高最终产品的良品率。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供