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用于对根据比色法测定二氧化硅量的设备进行零点校准的方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200380100905.6
IPC分类号：G01N21/78;G01N33/18;G01N31/22
申请日期：
2003-10-03
申请人：
赫奇两合公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	用于对根据比色法测定二氧化硅量的设备进行零点校准的方法
申请号	CN200380100905.6	申请日期	2003-10-03
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2006-05-17	公开/公告号	CN1774625
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01N21/78 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01N （除免疫测定法以外包括酶或微生物的测量或试验入C12M，C12Q） G01N21/00 利用光学手段，即利用红外光、可见光；或紫外光来测试或分析材料（G01N 3/00至G01N 19/00优先） G01N21/75 材料在其中经受化学反应的系统，测试反应的进行或结果（材料在火焰或等离子体中燃烧的装置入G01N 21/72，G01N 21/73）〔3〕 G01N21/77 观察对化学指示剂的作用〔3〕 G01N21/78 产生颜色变化〔3〕	IPC分类号	G;0;1;N;2;1;/;7;8;;;G;0;1;N;3;3;/;1;8;;;G;0;1;N;3;1;/;2;2查看分类表>
申请人	赫奇两合公司	申请人地址	法国大努瓦西变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	赫奇两合公司	当前权利人	赫奇两合公司
发明人	A·马特申科;F·勒迈特;R·卡比
代理机构	中国国际贸易促进委员会专利商标事务所	代理人	王杰

摘要

本发明涉及一种用于校准设备零点的方法，所述设备利用比色法测定待分析二氧化硅溶液的试样中所含的二氧化硅量，所述比色法在于在所述试样中连续加入钼酸盐溶液、显色剂和一种试剂。为了确定零点，在所述待分析二氧化硅溶液的试样中加入所述显色剂、然后是所述钼酸盐溶液、最后是所述还原剂。

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