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一种刻蚀装置

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201721651674.3
  • IPC分类号:H01L21/67
  • 申请日期:
    2017-12-01
  • 申请人:
    武汉新芯集成电路制造有限公司
著录项信息
专利名称一种刻蚀装置
申请号CN201721651674.3申请日期2017-12-01
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/67IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;6;7查看分类表>
申请人武汉新芯集成电路制造有限公司申请人地址
湖北省武汉市东湖开发区高新四路18号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人武汉新芯集成电路制造有限公司当前权利人武汉新芯集成电路制造有限公司
发明人周文权
代理机构上海申新律师事务所代理人俞涤炯
摘要
本实用新型涉及半导体技术领域,尤其涉及一种刻蚀装置,其中,包括:旋转刻蚀机台,包括一腔体,腔体用于固定晶圆;温度发生装置,设置于旋转刻蚀机台的腔体的上方;其中,温度发生装置在正对腔体的平面上具有一固定板;固定板朝向腔体的一面布设有多个温度发生单元,温度发生单元在固定板上的分布密度由内侧向外侧逐渐增加;上述技术方案能够对刻蚀流程的刻蚀均匀度进行优化,从而提高最终的产品良率。

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