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聚合物薄膜及其制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201080069944.4
  • IPC分类号:B32B27/32;B32B37/00;B32B37/14;C08L23/04;C08L23/10;C08L23/14;C08L23/16;C08L23/18
  • 申请日期:
    2010-11-05
  • 申请人:
    埃克森美孚化学专利公司
著录项信息
专利名称聚合物薄膜及其制造方法
申请号CN201080069944.4申请日期2010-11-05
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2013-07-03公开/公告号CN103189207A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B32B27/32IPC分类号B;3;2;B;2;7;/;3;2;;;B;3;2;B;3;7;/;0;0;;;B;3;2;B;3;7;/;1;4;;;C;0;8;L;2;3;/;0;4;;;C;0;8;L;2;3;/;1;0;;;C;0;8;L;2;3;/;1;4;;;C;0;8;L;2;3;/;1;6;;;C;0;8;L;2;3;/;1;8查看分类表>
申请人埃克森美孚化学专利公司申请人地址
美国得克萨斯 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人埃克森美孚化学专利公司当前权利人埃克森美孚化学专利公司
发明人陈鑫;P·哈迪
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所代理人夏正东
摘要
在一个方面中,本发明的公开内容涉及含至少一个层A和至少一个层B的多层聚合物薄膜;其中层A和层B中的至少一层进一步包括丙烯衍生的单元和一种或更多种C2,与C4-C10α-烯烃衍生的单元的至少一种共聚物,该共聚物具有:(a)C2,和/或C4-C10α-烯烃衍生的单元含量范围为约5-30wt%;(b)分子间组成分布大于或等于75%;(c)Tm范围为约25℃-约110℃;(d)Hf范围为约0.5-约70J/g;(e)Mw/Mn范围为约1.2-约4.5;和(f)MFR范围为约0.1-约40g/10min;和其中在0.75秒的停留时间下,多层聚合物薄膜的密封强度大于6.25N/cm。

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