激光辐照提高镧钡锰氧薄膜性能的方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200610081231.5
IPC分类号：C23C14/28;C23C14/58;C23C14/54
申请日期：
2006-05-26
申请人：
北京工业大学

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专利名称	激光辐照提高镧钡锰氧薄膜性能的方法
申请号	CN200610081231.5	申请日期	2006-05-26
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2006-11-29	公开/公告号	CN1869278
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/28 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/24 真空蒸发〔4〕 C23C14/28 波能法或粒子辐射法（C23C 14/32至C23C 14/48优先）〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;2;8;;;C;2;3;C;1;4;/;5;8;;;C;2;3;C;1;4;/;5;4查看分类表>
申请人	北京工业大学	申请人地址	变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	成都三鼎日新激光科技有限公司	当前权利人	成都三鼎日新激光科技有限公司
发明人	蒋毅坚;常雷
代理机构	北京思海天达知识产权代理有限公司	代理人	刘萍

摘要

一种激光辐照提高镧钡锰氧薄膜性能的方法，属功能薄膜领域。PLD制备的La1-xBaxMnO3薄膜，TCR为4%，退火处理时间长，TCR值提高不明显。本发明步骤：将清洗干净的基片干燥后置于真空室内的硅板加热器上；保持5×10-4Pa～2×10-4Pa，700℃～850℃，氧气流动压5～80Pa，准分子激光轰击La0.67Ba0.33MnO3靶材；沉积结束后降至室温；将制备的薄膜置于旋转平台上，以35～60W/cm2激光辐照10～120秒。激光辐照后，薄膜的转变温度提高至340K，TCR值提高至8.8%K-1(307K)，成本降低，效率提高，有利于工业化生产；薄膜表面粗糙度降低。

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