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用于光刻过程的优化的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110601260.4
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2017-10-16
  • 申请人:
    ASML荷兰有限公司
著录项信息
专利名称用于光刻过程的优化的方法
申请号CN202110601260.4申请日期2017-10-16
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-08-13公开/公告号CN113253578A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人ASML荷兰有限公司申请人地址
荷兰维德霍温 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人ASML荷兰有限公司当前权利人ASML荷兰有限公司
发明人E·C·摩斯;J·S·威尔登伯格;E·J·M·沃勒伯斯;M·范德斯卡;弗兰克·斯塔尔斯;F·H·A·叶利奇
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人胡良均
摘要
一种用于改善光刻过程的成品率的方法,所述方法包括:确定整个衬底的性能参数的参数指纹,所述参数指纹包括与所述性能参数的不确定性相关的信息;确定整个所述衬底的性能参数的过程窗口指纹,过程窗口与所述性能参数的可允许范围相关联;以及确定与所述性能参数在可允许范围之外的概率相关联的概率度量。可选地,基于所述概率度量来确定对所述光刻过程的校正。

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