加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

光投射方法和装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201910073208.9
  • IPC分类号:G02B6/124;G02B6/34
  • 申请日期:
    2019-01-25
  • 申请人:
    深圳市光鉴科技有限公司
著录项信息
专利名称光投射方法和装置
申请号CN201910073208.9申请日期2019-01-25
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-01-24公开/公告号CN110727049A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B6/124IPC分类号G;0;2;B;6;/;1;2;4;;;G;0;2;B;6;/;3;4查看分类表>
申请人深圳市光鉴科技有限公司申请人地址
上海市浦东新区南洋泾路555号4号楼707 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人深圳市光鉴科技有限公司当前权利人深圳市光鉴科技有限公司
发明人吕方璐
代理机构上海东信专利商标事务所(普通合伙)代理人杨丹莉;李丹
摘要
本发明提供一种包括第一表面和第二表面的波导器件。所述第二表面包括第一光栅结构。所述波导器件构造为引导耦合入光束在第一表面和第二表面之间进行全内反射。所述第一光栅结构构造为干扰全内反射以使至少部分耦合入光束自第一表面耦合出波导器件,从波导器件耦合出的这部分耦合入光束形成耦合出光束。所述波导器件进一步包括反射层,所述反射层设在第二表面上并覆盖第一光栅结构。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供