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一种调制二维晶体禁带荧光偏振性的装置和方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201910216980.1
  • IPC分类号:G02B5/00;G02F1/01
  • 申请日期:
    2019-03-21
  • 申请人:
    中国科学院微电子研究所
著录项信息
专利名称一种调制二维晶体禁带荧光偏振性的装置和方法
申请号CN201910216980.1申请日期2019-03-21
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-09-29公开/公告号CN111722310A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B5/00IPC分类号G;0;2;B;5;/;0;0;;;G;0;2;F;1;/;0;1查看分类表>
申请人中国科学院微电子研究所申请人地址
北京市朝阳区北土城西路3号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院微电子研究所当前权利人中国科学院微电子研究所
发明人韩春蕊;叶剑挺;齐月静;王宇
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人任岩
摘要
本发明公开了一种调制二维晶体禁带荧光偏振性的装置和方法,该装置包括一高导电材料衬底;在高导电材料衬底上形成的一绝缘层;在绝缘层上形成的一二维晶体单层;在二维晶体单层上形成的一透光介质层;以及在透光介质层上形成的具有周期性单元结构的金属纳米超材料。本发明基于金属表面等离激元共振原理,利用金属纳米超材料各向异性共振场调控半导体荧光场,实现偏振荧光并达到偏振可调的目的。本发明调制二维晶体禁带荧光偏振性的装置和方法,有效拓宽了二维晶体禁带荧光的线性可调范围和温度适用范围。

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