用于分析微孔的光学器件

发明专利有效专利

申请号：
CN201710089718.6
IPC分类号：G01N21/64;G02B21/00
申请日期：
2017-02-20
申请人：
豪夫迈·罗氏有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	用于分析微孔的光学器件
申请号	CN201710089718.6	申请日期	2017-02-20
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2017-08-29	公开/公告号	CN107101979A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01N21/64 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01N （除免疫测定法以外包括酶或微生物的测量或试验入C12M，C12Q） G01N21/00 利用光学手段，即利用红外光、可见光；或紫外光来测试或分析材料（G01N 3/00至G01N 19/00优先） G01N21/62 所测试的材料在其中被激发，因之引起材料发光或入射光的波长发生变化的系统〔3〕 G01N21/63 光学激发的〔3〕 G01N21/64 荧光；磷光〔3〕	IPC分类号	G;0;1;N;2;1;/;6;4;;;G;0;2;B;2;1;/;0;0查看分类表>
申请人	豪夫迈·罗氏有限公司	申请人地址	瑞士巴塞尔变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	豪夫迈·罗氏有限公司	当前权利人	豪夫迈·罗氏有限公司
发明人	J·维佐雷克
代理机构	北京坤瑞律师事务所	代理人	封新琴

摘要

在本发明的一个方面中，光学测量装置包括：限定样本平面的样本保持器，其中所述样本保持器被构造成布置样本载体，所述样本载体包括在所述样本平面中的测量位置阵列；照明单元，其被构造成照亮所述样本平面；检测器；和光学成像系统，其被构造成将包括所述测量位置阵列的样本平面成像到所述检测器上，所述光学成像系统包括两个以上曲面反射元件，所述两个以上曲面反射元件适于以在2:1与1:2之间的放大率将所述样本平面成像在所述检测器上，并且所述检测器被构造成一次性获取所述测量位置阵列中的所有测量位置的图像。

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