多层衰减相移掩模

发明专利无效专利

申请号：
CN00802673.4
IPC分类号：--
申请日期：
2000-01-13
申请人：
纳幕尔杜邦公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	多层衰减相移掩模
申请号	CN00802673.4	申请日期	2000-01-13
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2002-02-20	公开/公告号	CN1337012
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	纳幕尔杜邦公司	申请人地址	美国特拉华州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	纳幕尔杜邦公司	当前权利人	纳幕尔杜邦公司
发明人	P·F·卡西雅
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	卢新华;王其灏

摘要

本发明涉及能在选定的光刻术波长小于200nm下产生180°相移,并其光学透射系数至少为0.001的衰减嵌入式相移掩模。该掩模包含性质不同的交替邻接的光学透明物质层和光学吸收物质层,前者基本上是由选自Al和Si的氧化物组成,后者基本上是由选自Al和Si的氮化物组成。众所周知,这类掩模在专业技术领域中作为衰减(嵌入式)相移掩模或半色调相移掩模。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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