Wafer自动清洗机

实用新型专利无效专利

申请号：
CN201520606176.1
IPC分类号：B08B3/02;B08B13/00;F26B23/04
申请日期：
2015-08-13
申请人：
东莞市承恩自动化设备有限公司

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著录项信息

专利名称	Wafer自动清洗机
申请号	CN201520606176.1	申请日期	2015-08-13
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B08B3/02 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B0 分离；混合 B08 清洁 B08B 一般清洁；一般污垢的防除（刷子入A46；家庭或类似清洁装置入A47L；颗粒从液体或气体中分离入B01D；固体分离入B03，B07；一般对表面喷射或涂敷液体或其他流体材料入B05；用于输送机的清洗装置入B65G 45/10；对瓶子同时进行清洗、灌注和封装的入B67C 7/00；一般腐蚀或积垢的防止入C23；街道、永久性道路、海滨或陆地的清洗入E01H；专门用于游泳池或仿海滨浴场浅水池或池子的部件、零件或辅助设备清洁的入E04H 4/16；防止或清除静电荷入H05F） B08B3/00 使用液体或蒸气的清洁方法（B08B 9/00优先） B08B3/02 用喷射力来清洁	IPC分类号	B;0;8;B;3;/;0;2;;;B;0;8;B;1;3;/;0;0;;;F;2;6;B;2;3;/;0;4查看分类表>
申请人	东莞市承恩自动化设备有限公司	申请人地址	广东省东莞市常平镇黄泥塘村新兴大道32号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	东莞市承恩自动化设备有限公司	当前权利人	东莞市承恩自动化设备有限公司
发明人	黄均学
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

本实用新型公开一种Wafer自动清洗机，包括有机架、转盘装置、高压水枪、烘干灯以及PLC控制系统；该机架具有一工作腔室，该转盘装置、高压水枪和烘干灯均设于机架上并位于工作腔室内，高压水枪和烘干灯均位于转盘装置的上方，转盘装置由第一驱动机构带动高速旋转，该高压水枪连接高压柱塞泵，高压柱塞泵由电动机带动运转；该PLC控制系统设置于机架上，前述第一驱动机构、高压柱塞泵和烘干灯均连接PLC控制系统。通过利用电动机使高压柱塞泵产生高压水来冲洗物体表面，能将污垢剥离冲走，达到清洗物体表面的目的，清洗更加干净，保证产品质量，本设备可对Wafer自动完成清洗和烘干工序，工作效率高，功能完善，自动化程度高，不需人工介入，可降低人工成本。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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