加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

CZT晶体及其后处理方法、CZT晶片、核辐射探测器件及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110307620.X
  • IPC分类号:C30B29/46;C30B11/00;C30B33/02;C30B33/00
  • 申请日期:
    2021-03-23
  • 申请人:
    中广核工程有限公司;深圳中广核工程设计有限公司;上海大学
著录项信息
专利名称CZT晶体及其后处理方法、CZT晶片、核辐射探测器件及其制备方法
申请号CN202110307620.X申请日期2021-03-23
法律状态实质审查申报国家暂无
公开/公告日2021-07-23公开/公告号CN113151901A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C30B29/46IPC分类号C;3;0;B;2;9;/;4;6;;;C;3;0;B;1;1;/;0;0;;;C;3;0;B;3;3;/;0;2;;;C;3;0;B;3;3;/;0;0查看分类表>
申请人中广核工程有限公司;深圳中广核工程设计有限公司;上海大学申请人地址
广东省深圳市大鹏新区鹏飞路大亚湾核电基地工程公司办公大楼 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中广核工程有限公司,深圳中广核工程设计有限公司,上海大学当前权利人中广核工程有限公司,深圳中广核工程设计有限公司,上海大学
发明人田亚杰;闵嘉华;王坤元;王林军;张继军;李磊;刘洪涛
代理机构广州华进联合专利商标代理有限公司代理人陈春渠
摘要
本发明涉及一种CZT晶体及其后处理方法、CZT晶片、核辐射探测器件及其制备方法。上述CZT晶体的后处理方法,包括如下步骤:采用移动加热器法生长CZT晶体;将CZT晶体先在870℃~930℃下进行原位退火处理50h~70h,然后在50h~80h内将温度降至400℃~420℃,最后在400℃~420℃下保温40h~50h。上述CZT晶体的后处理方法利用热迁移机制消除热应力、减少Te夹杂和Te沉淀,获得的CZT晶体质量高、Te夹杂等相关缺陷密度减小,最终提高CZT晶体用于探测器时的光电性能。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供