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一种水系剥离液组合物及使用方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010476190.X
  • IPC分类号:G03F7/42
  • 申请日期:
    2020-05-29
  • 申请人:
    昆山欣谷微电子材料有限公司
著录项信息
专利名称一种水系剥离液组合物及使用方法
申请号CN202010476190.X申请日期2020-05-29
法律状态公开申报国家暂无
公开/公告日2021-12-03公开/公告号CN113741158A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/42IPC分类号G;0;3;F;7;/;4;2查看分类表>
申请人昆山欣谷微电子材料有限公司申请人地址
江苏省苏州市昆山市千灯镇秦峰北路219号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人昆山欣谷微电子材料有限公司当前权利人昆山欣谷微电子材料有限公司
发明人张建;潘阳;朱敏
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本发明涉及一种水系剥离液组合物,包括去离子水、有机季胺化合物、有机醇胺、有机剥离溶剂、缓蚀剂、螯合助剂,并同时提供了所述一种水系剥离液组合物的使用方法,本发明主要用于去除微电子制造过程中光刻胶残留物,操作温度较低,能耗较少,在对晶圆清洗后无需IPA或NMP等中间溶剂浸泡就可以用水直接漂洗,而且由于不会对金属尤其是铝和铜造成腐蚀,安全环保,有效的降低的清洗成本。同时由于采用了多种具有协同效应的缓蚀剂成分,能非常有效的保护金属基底不受腐蚀,另外,本发明的剥离液配方本身就是一个缓冲体系,保证了剥离液在长时间清洗过程中的稳定,具有较强的使用寿命。

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