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测量方法、检验设备和光刻设备

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200810005118.8
  • IPC分类号:G03F7/20;H01L21/66
  • 申请日期:
    2008-01-22
  • 申请人:
    ASML荷兰有限公司
著录项信息
专利名称测量方法、检验设备和光刻设备
申请号CN200810005118.8申请日期2008-01-22
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2008-07-30公开/公告号CN101231472
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;H;0;1;L;2;1;/;6;6查看分类表>
申请人ASML荷兰有限公司申请人地址
荷兰维德霍温 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人ASML荷兰有限公司当前权利人ASML荷兰有限公司
发明人埃维哈德斯·科尼科斯·摩斯;毛瑞特斯·范德查尔
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人王波波
摘要
本发明公开了一种测量方法,尤其公开了一种测量衬底上的重叠误差的方法,包括步骤:将辐射束投影到衬底上的多个位置处的多个目标上;采用散射仪测量衬底上的多个目标中的每一个目标所反射的辐射;根据经过反射的辐射检测和计算重叠误差的程度,其中,所述计算假定从目标的不对称度导出的每个目标中的重叠误差的比例对于多个位置是恒定的。通过假定从不对称度导出的重叠误差跨过衬底光滑地变化,可以减少所测量的目标的数量。这可以导致由衬底的每个层的目标所使用的划线的面积的减小。此外,公开了一种用于测量的检验设备和一种光刻设备。

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