料架可旋转立式真空高压气淬炉

发明专利无效专利

申请号：
CN200810012387.7
IPC分类号：C21D1/62;C21D1/613;C21D1/773
申请日期：
2008-07-18
申请人：
沈阳恒进真空科技有限公司

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专利名称	料架可旋转立式真空高压气淬炉
申请号	CN200810012387.7	申请日期	2008-07-18
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2008-12-10	公开/公告号	CN101319272
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C21D1/62 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C21 铁的冶金 C21D 改变黑色金属的物理结构；黑色或有色金属或合金热处理用的一般设备；通过脱碳、回火或其他处理使金属具有韧性（扩散法渗入处理入C23C；涉及C23大类中的至少一种工艺和本小类中的至少一种工艺的金属材料表面处理入C23F 17/00；共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层入C30B） C21D1/00 热处理的一般方法或设备，例如退火、硬化、淬火或回火 C21D1/62 淬火设备	IPC分类号	C;2;1;D;1;/;6;2;;;C;2;1;D;1;/;6;1;3;;;C;2;1;D;1;/;7;7;3查看分类表>
申请人	沈阳恒进真空科技有限公司	申请人地址	辽宁省沈阳市浑南新区学院路1号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	沈阳恒进真空科技有限公司	当前权利人	沈阳恒进真空科技有限公司
发明人	杨建川;石岩;曲绍芬;张晓东;赵建业;顾景文
代理机构	沈阳科威专利代理有限责任公司	代理人	崔红梅

摘要

料架可旋转的立式真空高压气淬炉，为立式下开门、底装料式真空炉，包括以工控机及PLC为主的控制系统，其特征是下炉门内侧内圆设旋转平台支座，支座上同轴安装旋转圆盘、料架，旋转圆盘下部同轴安装大齿轮，偏心设置的旋转驱动机构上的小齿轮与大齿轮周啮合，驱动旋转圆盘转动，使承载工件的料架可以绕垂直中心轴旋转；料架根部设较厚隔热层，加热室下屏保温层为环形、两者之间有环台形间隙；转盘及其上的隔热层、料架，以及旋转驱动机构都随炉门一同升降；真空炉采用PLC技术控制，作业时的开门装料、抽空、加热、料架旋转、充气冷却动作是连锁控制的，能够保证各部位的工件受热均匀一致，在真空、正压、动密封、保温、冷却等性能都得到了较好的保证。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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